Dienstag, 17. Oktober 2017

Erfahrung über Generationen

Zu Beginn der 60-iger Jahre entwickelte und patentierte Herr Günter Fahrion, unser Onkel, die ersten Dosierpumpen in Voll-PTFE-Version und mit zwangsgesteuerten Ventilen. In dessen Tradition und mit stetig gewachsenem Know how entwickeln und bauen wir nun schon in dritter Generation Dosierpumpen in spezialisierter PTFE-Ausführung und höchster Funktionalität.

Schon die ersten Kleinmengendosierer waren mit einer ausgeklügelten Antriebs- und Excentertechnik Präzisionsdosierpumpen, eine bemerkenswerte Innovation in der damaligen Dosiertechnik.

1996 wurden dem Markt die ersten mikroprozessorgesteuerten Dosierpumpen mit schrittmotorgesteuerter Hubeinstellung, regelbarer Hubfrequenz und digitalen Steuerungsoptionen vorgestellt. 

2006 setzte die neueste Generation unserer Präzisionsdosierpumpen, Ritmo®05 wiederum neue Maßstäbe in der Kleinmengen- und Mikrodosiertechnik. Sie zeichnet sich neben der bewährten PTFE-Technologie insbesondere durch eine variable Ausstoßgeschwindigkeit und steuerbare Ventilaktorik aus. 

2008 konnten wir erstmals am Markt Mehrkanalpumpen, Probenahmepumpen und Dosiersysteme in Master-/Slave-Konfiguration für zeitsynchrone Dosierabläufe präsentieren. Beide Entwicklungen erschließen absolut neue Anwendungsoptionen für Membrandosierpumpen und unterstreichen das hohe Entwicklungspotential der Fink Chem+Tec GmbH.

2010 Nach Abschluss eines Hochschulstudiums ist Andreas Fink als Gesellschafter in das Unternehmen eingetreten. Mit seiner Ausbildung in Mechatronik, Elektronik und Programmierung wurden die Weichen für Innovation, Produktentwicklung, aber auch für Tradition und Kontinuität für die nächsten Jahrzehnte gestellt.

Seit 2011 konnten wir neue Anwendungen in der Mikrodosiertechnik mittels eigens entwickelter Hochdruckdosierpumpen bis 600 bar erschließen. Vor allem mit einer dualen Antriebstechnik und flexibler Software war es uns möglich, Hochdruckpumpen nicht nur alternierend pulsfrei zu betreiben, sondern auch 2 Fluide mit nur einer Pumpe gleichzeitig zu dosieren oder zu mischen. 

Im September 2013 erfolgte der Umzug in eine größere Produktionsstätte nach Leinfelden-Echterdingen. Die kontinuierlich wachsende Produktion und die Anforderungen an Service und Kundennähe machten diese Veränderung zwingend erforderlich. Gleichzeitig konnten wir unsere Misch- und Verdünnungspumpen an den Markt führen. 

Mit der Übernahme der Firma K-Engineering zu Beginn 2015 erweiterten wir unser Produktprogramm durch spezielle Peripheralradpumpen in Hochdruckausführung, patentierte Peripheralreaktoren und -mischer sowie beheizbare Gaszirkulationspumpen. 

2017 schließt sich nahtlos mit Blick auf weiteres Wachstum und Kontinuität die Übergabe der Fink Chem+Tec an die nächste Generation an. Mit Beginn des Jahres wurde die alleinige Geschäftsführung an den bisherigen Junior-Chef Andreas Fink übertragen. Im gleichen Zuge wurde die Gesellschaft einer GmbH & Co.KG in die Fink Chem+Tec GmbH umfirmiert und 80% der Anteile auf Andreas Fink übertragen.

Montag, 16. Oktober 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 in Hochdruckausführung

Flujo 01 - Peripheralradpumpen in Hochdruckausführung verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Hochdruck - Flujo 01 - Pumpen sind für Prozesse mit hohen Systemdrücken gefragt. Sie werden stets für den konkreten Anwendungsfall berechnet und ausgelegt. Vor allem der Spalttopf ist so zu dimensionieren, dass er einerseits die Übertragung der magnetischen Antriebskräfte nicht gravierend einschränkt, die Wärmeentwicklung durch Wirbelstromverluste beherrschbar bleibt und gleichzeitig den Anforderung der Druckbehälterverordnung Rechnung getragen wird.

Im Einzelfall wurden Peripheralradpumpen für Systemdrücke bis 750 bar ausgelegt.

Der angestrebte Druckaufbau zwischen Pumpeneingang und –ausgang, d.h. das sogenannte dp, ist unabhängig von der Systemdruckauslegung der Pumpe. Die Druckdifferenz zwischen Pumpeneingang und –ausgang orientiert sich ausschliesslich an der zugeordneten Kennlinie der Pumpe.

Freitag, 13. Oktober 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Donnerstag, 12. Oktober 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinförder-Mischpumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralmischer sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidunggefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira E02 – Peripheralmischer sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für das Fördern, das Mischen oder das Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel, das Mischen und Emulgieren schwer miteinander mischbarer Fluide oder das Einmischen von Gasen in Flüssigkeiten, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern Peripheralmischer ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Mittwoch, 4. Oktober 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Laufrad

Das Laufrad einer Peripheralradpumpe besitzt beidseitig radial über den Umfang angeordnete, anwendungskonform ausgebildete Förderzellen. Im Zusammenspiel von Laufrad, Förderkanal und Unterbrechersteg realisiert die Peripheralradpumpe eine nahezu lineare Kennlinie. Das Laufrad spielt bei der Auslegung der Pumpe eine entscheidende Größe. Durchmesser, Breite, Anzahl und Anordnung der Förderzellen erlauben die zielgenaue Auslegung auf den gewünschten Betriebspunkt und somit einen energieeffizienten Einsatz der Pumpe. 

Ein Standard-Laufrad verfügt in aller Regel auf jeder Seite über ca. 20 - 30 symmetrisch oder asymmetrisch angeordnete Förderzellen. 

Ein Laufrad mit größerer Anzahl gleichmäßig über den Umfang angeordneter Förderzellenerreicht einen höheren Druckaufbau und eine intensive Durchmischung des Fluides während des Durchganges durch den Pumpenkopf. 

Laufräder mit breiteren und zu dem asymmetrisch angeordneten Förderzellen eignen sich für das Fördern viskoser Fluide. Peripheralradpumpen können durchaus Fluide mit Viskositäten von 2000 – 3000 mPas fördern. 

Laufräder mit beidseitig bis zur Laufradnabe ausgebildeten Förderzellen und mit gezielter Zuordnung zu den Ausgleichsbohrungen erlauben die Förderung von Fluiden mit hohem Gasanteil bzw. einem gezielten Gaseintrag. Gasanteile bis zu 50% können mit diesen speziell angepassten Pumpen gefördert werden.

Dienstag, 26. September 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Flujo 01 Prozesspumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Verfahrensentwicklung und in Prozessanwendungen für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmitteln oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Mittwoch, 20. September 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Mehrphasenpumpen

Flujo 01 - Peripheralradpumpen für erhöhten Gaseintrag verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Flujo 01 – Mehrphasenpumpen machen sich vor allem die Fähigkeit des Peripheralradprinzips zunutze, hohe Gasanteile im Fluid mitfördern zu können. Sie sind deshalb besonders für die Förderung von Fluiden mit niedrigem Siedepunkt, für Austragsprozesse in Destillationsanlagen, für das Fördern von Flüssigkeiten mit gelösten Gasanteilen oder Flüssig-/Gasgemische geeignet. In der Wasser-/Abwasserbehandlung kommen sie als sogenannte Mehrphasenpumpen in der Begasungsflotation oder Denitrifikation zum Einsatz.

Mit speziellen Laufradgeometrien können im Einzelfall Gasanteile von bis zu 50Vol-% im Fluid mitgefördert werden.

Dienstag, 19. September 2017

Die sichere Dosierung von Flüssigkeiten und Gasen in explosionsgefährdeten Betriebsstätten der Zonen 1 und 2 mit Dosierpumpen der Zündschutzart Ex p.

Werkstoffausstattung:

Die Ex-Schutz-Sicherheit

Der Ex-Schutz der Dosierpumpe Ritmo®05 Ex wird durch eine Überdruck-Beaufschlagung des hermetisch dichtes Pumpengehäuse sichergestellt. Das Pumpengehäuse ist in IP54 ausgeführt und verfügt über eine Ex-e Zulassung.

Über einen Spülanschluss wird das Ex-Gehäuse mit einem Überdruck von 5 - 8 mbar beaufschlagt. Dazu wird Luft-/Druckluft oder Stickstoff in das Gehäuse geleitet. Der Überdruck im Pumpengehäuse verhindert ein Eindringen von explosionsgefährdender Atmosphäre in das Pumpengehäuse.

Ein im Pumpengehäuse befindliches Ex-p Steuergerät mit Spül- und Druckregelfunktion und eine Proportionalventiltechnik mit automatischem Leckage-Ausgleich sichern die Aufrechterhaltung des Gehäuse-Überdruckes. Im Vergleich zu einer Standard-Dosierpumpe R05 wird der außerhalb des Ex-Gehäuses befindliche Pumpenkopf vom Ex -Gehäuse entkoppelt. Eine Undichtheit der Membran oder ein Membranriss führt nicht zu einem Eindringen von Dosierflüssigkeit oder Gas in das ex-geschützte Gehäuse.

Externe Ansteuerung und Automatisierungsfähigkeit unter Ex-Schutz-Bedingungen

Die Dosierpumpe Ritmo®05 Ex kann über Start/Stop, über eine Analog-Schnittstelle 4-20 mA und über eine digitale RS232-Schnittstelle betrieben werden. Ex-ausgeführte Schnittstellenrelais in einem Ex-ausgeführtem Klemmenkasten trennen die Eingangssignale von der Pumpe.

Montag, 18. September 2017

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 Kleinzirkulatoren

Werkstoffausstattung:

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen und aggressive Gasanwendungen ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) hergestellt. Die Verdrängerplatten sind aus einer SiC-Keramik, PEEK oder einer Spezialkohle und bedürfen keiner Schmierung.

Einsatzbedingungen:

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen werden in ihrer Auslegung an anspruchsvollste Einsatzbedingungen angepasst. Dazu gehören Prozesstemperaturen bis 300°C, Systemdrücke bis 400 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen.

Die Gasanschlüsse

Für die Gasanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen in den Prozess zum Einsatz

Freitag, 15. September 2017

Die pH-gesteuerte Dosierung mit integriertem Regelmodul, zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausführung

pH-Regelung

Die Dosierpumpe R05-pH kann sowohl als Standarddosierpumpe (ohne pH-Regelung) oder auch als pH-geregelte Dosierpumpe eingesetzt werden.

Ein zusätzlicher Regler ist nicht mehr erforderlich.

Der in der Dosierpumpe integrierte Regler ist als vollwertiger PID-Regler ausgelegt.

Für den pH-geregelten Einsatz wird die Dosierpumpe in den „externen“ Modus gesetzt und die pH-Sonde direkt an der Vorderseite der Pumpe angeschlossen. Die Pumpe erkennt die pH-Sonde, sobald sie an der dafür vorgesehenen Schnittstelle angeschlossen ist.

Den Soll-pH-Wert gibt der Anwender manuell am Display der Pumpe vor.

Der von der pH-Sonde gemessene Ist-pH-Wert wird an die Dosierpumpe übertragen, durch die pH-Regeleinheit mit dem Sollwert abgeglichen und die Nachdosierung des geeigneten sauren oder basischen Fluids ausgelöst.

Der Dosiervorgang erfolgt mit den für R05-Dosierpumpen typischem langsamen und pulsationsarmen Ausstoßvorgang. Auch bei kleinsten Dosiermengen ist das Dosier- und Regelverhalten der R05-pH reproduzierbar und gleichmäßig.

Zudem können die Regelparameter für den P-, I- und D-Anteil vom Anwender in Abhängigkeit seines Prozesses eingestellt oder auch nachjustiert werden.

pH-abhängige Reaktionen sind deshalb extrem genau, pulsationsarm und ohne gravierende Regelamplituden dem Soll-pH-Wert nachregelbar, um einen möglichst konstanten pH-Wert zu sichern und optimale Reaktionsergebnisse zu erzielen.

Dienstag, 12. September 2017

Schneckenlangsam mit extrem langen Ausstoßzeiten und Pulsationsfreiheit einer Mikrodosierung mit zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausstattung

Pulsationsfreie Mikrodosierpumpen Ritmo®05 PF-D

Ritmo®05 PF-D (PF-D = pulsfrei Druckseite) verfügen über die gleichen konstruktiven Charakteristika und Vorteile einer Dosierpumpe Ritmo®05. Sie sind in Voll-PTFE für alle fluidberührten Komponenten ausgerüstet, verfügen über zwangsgesteuerte Ventile und eine hochauflösende Schrittmotortechnik.

Pulsationsfreie Mikrodosierpumpen Ritmo®05 PF sind gegenüber den Dosierpumpen Ritmo®05 jedoch mit einem größeren Kammervolumen, einer hochauflösenden Schrittmotortechnik und einer eigens dafür entwickelten Software ausgestattet.

Das Pumpenkammervolumen wird über einen geeigneten Ansaugstutzen in der max. möglichen Ansauggeschwindigkeit gefüllt. Dagegen ist der Ausstoß „schneckenlangsam“. Das angesaugte Fluid wird in Abhängigkeit der gewünschten Dosierrate langsam und schonend ausgestoßen. Im Extremfall dauert der Ausstoßvorgang über 12 Stunden (bei minimaler Dosierrate von 15 µl/min).

Eine oszillierende, pulsationsbehaftete Membrandosierpumpe wird unter diesen konstruktiven Besonderheiten zu einer pulsationsfreien Mikrodosierpumpen und somit zu einer ernsthaften Alternative einer Spritzenpumpe.
    Die Vorteile liegen auf der Hand:
  • absoluter PTFE-Chemikalienbeständigkeit
  • hermetisch dichte Membran- und Ventiltechnik
  • kein Verschleppen aggressiver, feuchteempfindlicher Fluide hinter den Spritzenkolben
  • Unbegrenzter Contibetrieb (kein Wechsel des Spritzenkörpers)
  • Feststoff-tolerant (bei Bedarf mit Spülfunktion)
  • Umkehr der Dosierrichtung mit Returnfunktion zum Entleeren, Spülen und Trocknen des Pumpenkopfes
Die Mikrodosierpumpen sind zudem mit beheizbaren oder kühlbaren Pumpenköpfen lieferbar.

Montag, 11. September 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 in Hochtemperaturauslegung

Flujo 01 - Peripheralradpumpen in Hochtemperaturauslegung verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Hochtemperatur - Flujo 01 - Pumpen sind speziell für Verfahren mit hohen Prozesstemperaturen vorgesehen. Sie werden stets für den konkreten Anwendungsfall berechnet und ausgelegt. Konstruktiv sind vor allem die teils extrem unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten der zum Einsatz kommenden Werkstoffe und die Temperaturabhängigkeit der Antriebsmagnete zu berücksichtigen. Beheizbare Pumpenköpfe, separat beheizbare Lagergehäuse, entkoppelte, teils kühlbare Antriebslaternen, separate Spalttopfspülungen und –entleerungen oder auch spezielle Betriebsweisen machen die Konstruktion dieser Pumpen zu einer sehr komplexen Aufgabe. Im Einzelfall wurden Peripheralradpumpen für Fluidtemperaturen bis 450°C ausgelegt.

Freitag, 8. September 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Dienstag, 5. September 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Laufrad

Das Laufrad einer Peripheralradpumpe besitzt beidseitig radial über den Umfang angeordnete, anwendungskonform ausgebildete Förderzellen. Im Zusammenspiel von Laufrad, Förderkanal und Unterbrechersteg realisiert die Peripheralradpumpe eine nahezu lineare Kennlinie. Das Laufrad spielt bei der Auslegung der Pumpe eine entscheidende Größe. Durchmesser, Breite, Anzahl und Anordnung der Förderzellen erlauben die zielgenaue Auslegung auf den gewünschten Betriebspunkt und somit einen energieeffizienten Einsatz der Pumpe. 

Ein Standard-Laufrad verfügt in aller Regel auf jeder Seite über ca. 20 - 30 symmetrisch oder asymmetrisch angeordnete Förderzellen. 

Ein Laufrad mit größerer Anzahl gleichmäßig über den Umfang angeordneter Förderzellenerreicht einen höheren Druckaufbau und eine intensive Durchmischung des Fluides während des Durchganges durch den Pumpenkopf. 

Laufräder mit breiteren und zu dem asymmetrisch angeordneten Förderzellen eignen sich für das Fördern viskoser Fluide. Peripheralradpumpen können durchaus Fluide mit Viskositäten von 2000 – 3000 mPas fördern. 

Laufräder mit beidseitig bis zur Laufradnabe ausgebildeten Förderzellen und mit gezielter Zuordnung zu den Ausgleichsbohrungen erlauben die Förderung von Fluiden mit hohem Gasanteil bzw. einem gezielten Gaseintrag. Gasanteile bis zu 50% können mit diesen speziell angepassten Pumpen gefördert werden.

Montag, 4. September 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Prozesspumpen

Espira 02 – Prozess-Mischpumpen sind magnetgekuppelte Peripheralradpumpen, ausgelegt für anspruchsvolle Misch-, Verdünnungs- und Homogenisierungsansprüche, auch unter harschen, aggressiven Chemikalienbedingungen, in der Verfahrensentwicklung und für Chemie- und Prozessanwendungen. Sie verfügen im Wesentlichen den gleichen konstruktiven Aufbau einer Peripheralradpumpe mit Förderkanal und Unterbrechersteg und dem typischen Peripheralrad mit anwendungsspezifischer Auslegung der peripheren Förderzellen. Der Pumpenkopf wird jedoch zusätzlich mit einem oder mehreren Fluidanschlüssen ausgerüstet, um den Misch-, Verdünnungs- oder Homogenisierungsprozess unmittelbar im Pumpenkopf umsetzen zu können.

Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in den peripheren Förderzellen, zu einem Druckausgleich über das Laufrad und zu einer intensiven Vermischung mit dem Fluid im Förderkanal. Dieser für Peripheralradmischer charakteristische Impulsaustausch ist die Grundlage für einen intensiven Mischprozess innerhalb des Pumpenkopfes und somit auch während des Fördervorganges.

Espira 02 – Prozess-Mischpumpen stellen deshalb für viele Prozesse eine effektive und wirtschaftliche Alternative zu großvolumigen Rührbehältern oder Rührbehälternkaskaden, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern dar.

Mittwoch, 30. August 2017

Schneckenlangsam mit extrem langen Ausstoßzeiten und Pulsationsfreiheit einer Mikrodosierung mit zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausstattung

Pulsationsfreie Mikrodosierpumpen Ritmo®05 PF-D

Ritmo®05 PF-D (PF-D = pulsfrei Druckseite) verfügen über die gleichen konstruktiven Charakteristika und Vorteile einer Dosierpumpe Ritmo®05. Sie sind in Voll-PTFE für alle fluidberührten Komponenten ausgerüstet, verfügen über zwangsgesteuerte Ventile und eine hochauflösende Schrittmotortechnik.

Pulsationsfreie Mikrodosierpumpen Ritmo®05 PF sind gegenüber den Dosierpumpen Ritmo®05 jedoch mit einem größeren Kammervolumen, einer hochauflösenden Schrittmotortechnik und einer eigens dafür entwickelten Software ausgestattet.

Das Pumpenkammervolumen wird über einen geeigneten Ansaugstutzen in der max. möglichen Ansauggeschwindigkeit gefüllt. Dagegen ist der Ausstoß „schneckenlangsam“. Das angesaugte Fluid wird in Abhängigkeit der gewünschten Dosierrate langsam und schonend ausgestoßen. Im Extremfall dauert der Ausstoßvorgang über 12 Stunden (bei minimaler Dosierrate von 15 µl/min).

Eine oszillierende, pulsationsbehaftete Membrandosierpumpe wird unter diesen konstruktiven Besonderheiten zu einer pulsationsfreien Mikrodosierpumpen und somit zu einer ernsthaften Alternative einer Spritzenpumpe.
    Die Vorteile liegen auf der Hand:
  • absoluter PTFE-Chemikalienbeständigkeit
  • hermetisch dichte Membran- und Ventiltechnik
  • kein Verschleppen aggressiver, feuchteempfindlicher Fluide hinter den Spritzenkolben
  • Unbegrenzter Contibetrieb (kein Wechsel des Spritzenkörpers)
  • Feststoff-tolerant (bei Bedarf mit Spülfunktion)
  • Umkehr der Dosierrichtung mit Returnfunktion zum Entleeren, Spülen und Trocknen des Pumpenkopfes
Die Mikrodosierpumpen sind zudem mit beheizbaren oder kühlbaren Pumpenköpfen lieferbar.

Dienstag, 29. August 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinförder-Mischpumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralmischer sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidunggefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira E02 – Peripheralmischer sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für das Fördern, das Mischen oder das Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel, das Mischen und Emulgieren schwer miteinander mischbarer Fluide oder das Einmischen von Gasen in Flüssigkeiten, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern Peripheralmischer ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Montag, 28. August 2017

Die sichere Dosierung von Flüssigkeiten und Gasen in explosionsgefährdeten Betriebsstätten der Zonen 1 und 2 mit Dosierpumpen der Zündschutzart Ex p.

Werkstoffausstattung:

Die Ex-Schutz-Sicherheit

Der Ex-Schutz der Dosierpumpe Ritmo®05 Ex wird durch eine Überdruck-Beaufschlagung des hermetisch dichtes Pumpengehäuse sichergestellt. Das Pumpengehäuse ist in IP54 ausgeführt und verfügt über eine Ex-e Zulassung.

Über einen Spülanschluss wird das Ex-Gehäuse mit einem Überdruck von 5 - 8 mbar beaufschlagt. Dazu wird Luft-/Druckluft oder Stickstoff in das Gehäuse geleitet. Der Überdruck im Pumpengehäuse verhindert ein Eindringen von explosionsgefährdender Atmosphäre in das Pumpengehäuse.

Ein im Pumpengehäuse befindliches Ex-p Steuergerät mit Spül- und Druckregelfunktion und eine Proportionalventiltechnik mit automatischem Leckage-Ausgleich sichern die Aufrechterhaltung des Gehäuse-Überdruckes. Im Vergleich zu einer Standard-Dosierpumpe R05 wird der außerhalb des Ex-Gehäuses befindliche Pumpenkopf vom Ex -Gehäuse entkoppelt. Eine Undichtheit der Membran oder ein Membranriss führt nicht zu einem Eindringen von Dosierflüssigkeit oder Gas in das ex-geschützte Gehäuse.

Externe Ansteuerung und Automatisierungsfähigkeit unter Ex-Schutz-Bedingungen

Die Dosierpumpe Ritmo®05 Ex kann über Start/Stop, über eine Analog-Schnittstelle 4-20 mA und über eine digitale RS232-Schnittstelle betrieben werden. Ex-ausgeführte Schnittstellenrelais in einem Ex-ausgeführtem Klemmenkasten trennen die Eingangssignale von der Pumpe.

Freitag, 4. August 2017

Die pH-gesteuerte Dosierung mit integriertem Regelmodul, zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausführung

pH-Regelung

Die Dosierpumpe R05-pH kann sowohl als Standarddosierpumpe (ohne pH-Regelung) oder auch als pH-geregelte Dosierpumpe eingesetzt werden.

Ein zusätzlicher Regler ist nicht mehr erforderlich.

Der in der Dosierpumpe integrierte Regler ist als vollwertiger PID-Regler ausgelegt.

Für den pH-geregelten Einsatz wird die Dosierpumpe in den „externen“ Modus gesetzt und die pH-Sonde direkt an der Vorderseite der Pumpe angeschlossen. Die Pumpe erkennt die pH-Sonde, sobald sie an der dafür vorgesehenen Schnittstelle angeschlossen ist.

Den Soll-pH-Wert gibt der Anwender manuell am Display der Pumpe vor.

Der von der pH-Sonde gemessene Ist-pH-Wert wird an die Dosierpumpe übertragen, durch die pH-Regeleinheit mit dem Sollwert abgeglichen und die Nachdosierung des geeigneten sauren oder basischen Fluids ausgelöst.

Der Dosiervorgang erfolgt mit den für R05-Dosierpumpen typischem langsamen und pulsationsarmen Ausstoßvorgang. Auch bei kleinsten Dosiermengen ist das Dosier- und Regelverhalten der R05-pH reproduzierbar und gleichmäßig.

Zudem können die Regelparameter für den P-, I- und D-Anteil vom Anwender in Abhängigkeit seines Prozesses eingestellt oder auch nachjustiert werden.

pH-abhängige Reaktionen sind deshalb extrem genau, pulsationsarm und ohne gravierende Regelamplituden dem Soll-pH-Wert nachregelbar, um einen möglichst konstanten pH-Wert zu sichern und optimale Reaktionsergebnisse zu erzielen.

Montag, 31. Juli 2017

Die pH-gesteuerte Dosierung mit integriertem Regelmodul, zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausführung

Dosierpumpe Ritmo®05 pH

pH-gesteuerte Dosierpumpen Ritmo®05 pH verfügen über die gleichen konstruktiven Charakteristika und Vorteile einer Dosierpumpe Ritmo®05. Sie sind in Voll-PTFE für alle fluidberührten Komponenten ausgerüstet, verfügen über zwangsgesteuerte Ventile und eine hochauflösende Schrittmotortechnik.

Dosierpumpen Ritmo®05 pH sind gegenüber den Standard-Dosierpumpen jedoch mit einem 2-Kanal-Regler, Schnittstellen für den Anschluss einer pH-Sonde und einer Master-/Slave-Vernetzung zweier pH-Dosierpumpen sowie einer speziell auf die pH-abhängige Betriebsweise angepassten Software ausgestattet

Die R05-pH stellt damit eine abgestimmte Systemlösung aus pH-Messung, Dosierung von basischen und/oder sauren Fluiden und pH-Regelung dar.

Die Voll-PTFE-Ausstattung erlaubt das Dosieren aller denkbarer aggressiver, saurer oder basischer Fluide, die für den jeweiligen pH-anhängigen Prozess zum Einsatz kommen.

Die zwangsgesteuerte Ventiltechnik sorgt für einen robusten, absolut sicheren Ansaug- und Dosierablauf, auch unter ungünstigen Installations- und Prozessbedingungen.

Die hochauflösende Schrittmotortechnik ermöglicht sehr genaue und gleichmässige Dosierabläufe in den pH-abhängigen Prozess. Überschwingungen des Soll-pH-Wertes durch zu große Einzelhubdosierungen sind nahezu ausgeschlossen.

Ein 2-kanaliger Regler ist in der Pumpensteuerung bereits integriert. Die Installation eines separaten Regelgerätes ist nicht erforderlich. Das spart Platz, Installationsaufwand und Geld.

Die pH-Sonde wird direkt an der Dosierpumpe angeschlossen.

Eine weitere, spezielle Master-/Slave-Schnittstelle erlaubt die Vernetzung von 2 Dosierpumpen.

Grundlegende, für R05-Dosierpumpen typische Funktionalitäten wie Max-, Return- oder Clean-Funktion bleiben auch bei einer R05-pH erhalten. Aggressive Restfluide können in die Vorlage zurück gefördert werden.

Freitag, 28. Juli 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Prozesspumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung gefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Verfahrensentwicklung und in Prozessanwendungen für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmitteln oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, DIN-Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Dienstag, 25. Juli 2017

Die pH-gesteuerte Dosierung mit integriertem Regelmodul, zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausführung

pH-Regelung

Die Dosierpumpe R05-pH kann sowohl als Standarddosierpumpe (ohne pH-Regelung) oder auch als pH-geregelte Dosierpumpe eingesetzt werden.

Ein zusätzlicher Regler ist nicht mehr erforderlich.

Der in der Dosierpumpe integrierte Regler ist als vollwertiger PID-Regler ausgelegt.

Für den pH-geregelten Einsatz wird die Dosierpumpe in den „externen“ Modus gesetzt und die pH-Sonde direkt an der Vorderseite der Pumpe angeschlossen. Die Pumpe erkennt die pH-Sonde, sobald sie an der dafür vorgesehenen Schnittstelle angeschlossen ist.

Den Soll-pH-Wert gibt der Anwender manuell am Display der Pumpe vor.

Der von der pH-Sonde gemessene Ist-pH-Wert wird an die Dosierpumpe übertragen, durch die pH-Regeleinheit mit dem Sollwert abgeglichen und die Nachdosierung des geeigneten sauren oder basischen Fluids ausgelöst.

Der Dosiervorgang erfolgt mit den für R05-Dosierpumpen typischem langsamen und pulsationsarmen Ausstoßvorgang. Auch bei kleinsten Dosiermengen ist das Dosier- und Regelverhalten der R05-pH reproduzierbar und gleichmäßig.

Zudem können die Regelparameter für den P-, I- und D-Anteil vom Anwender in Abhängigkeit seines Prozesses eingestellt oder auch nachjustiert werden.

pH-abhängige Reaktionen sind deshalb extrem genau, pulsationsarm und ohne gravierende Regelamplituden dem Soll-pH-Wert nachregelbar, um einen möglichst konstanten pH-Wert zu sichern und optimale Reaktionsergebnisse zu erzielen.

Donnerstag, 20. Juli 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Mittwoch, 19. Juli 2017

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 Kleinzirkulatoren

Ziclon 04- Kleinzirkulatoren sind spezielle, ölfreie Drehschieberpumpen. Sie bestehen im Wesentlichen aus dem Antriebsmotor, dem Gehäusering und dem Rotor mit Verdrängerplatten. Sie sind in Abhängigkeit ihrer Anwendung für einfache Gasförderungen, in spezieller Anpassung in der Forschung und Verfahrensentwicklung und für anspruchsvollste Chemie- und Prozessanwendungen ausgelegt.

Im Rotor (Läufer) sind mehrere Rotorschlitze eingearbeitet, in denen Verdrängerplatten (Schieber) eingesetzt sind. Diese sind fliegend gelagert und legen sich durch die Fliehkraft an die Gehäusewand an. Je nach Anzahl der im Rotor eingesetzten Schieber transportieren die entstehenden Förderkammern das Gas von der Saug- zur Druckseite der Gasförderpumpe.

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen werden grundsätzlich in einer magnetgekuppelten Auslegung hergestellt. Sie sind deshalb hermetisch dicht und bestehen auch die Helium-Dichtheitsprüfung.

Sie können sowohl als Förderpumpe als auch als Verdichter- oder Vakuumpumpe genutzt werden. Z04-Kleinzirkulatoren sind in der Forschung und Verfahrensentwicklung, für die Förderung aggressiver Gase und Gasgemische, heißer oder radioaktiv kontaminierter Gase, in Hochdruckprozessen, aber auch für Reinstgase und als Bypasspumpe für Gasanalyse-Systeme einsetzbar.

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinreaktoren

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralreaktoren sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidungausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind für einfache Misch- und Reaktionsabläufe während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in vielfältigen Prozessen für die Förderung, das Mischen, Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder für schnelle Reaktionsabläufe zwischen Fluid / Fluid oder auch Fluid / Gas, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Dienstag, 11. Juli 2017

Die Robustheit und Intelligenz einer Dosierung mit flexiblen Montageoptionen, großem Einstellbereich und intelligenter Drucksensorik.

Ritmo®031-Dosierpumpen

sind trotz anspruchsvoller Schrittmotortechnik durch ihren extrem großen Einstellbereich und der Reduzierung der Typenvielfalt universelle, preiswerte und ökonomische Kleinmengen-Dosierpumpen, quasi die kostensparende Einstiegsvariante für eine Unzahl von Anwendungen von der Wasser- und Abwasserbehandlung bis hin zu einfachen, chemischen Applikationen.

Technik:

Ritmo®031 Dosierpumpen sind schrittmotorgetriebene Membrandosierpumpen mit robustem Pleuelantrieb, optimiertem totraumarmen Pumpenkopf, integriertem Entlüftungsventil und Doppelkugelventiltechnik. Sie repräsentieren mit nur 2 Baugrößen die Basisversion der modular aufgebauten und mit einer drehzahlgeregelten Schrittmotortechnik ausgestatteten Baureihe der Ritmo®030-Dosierpumpen. Mit ihrem extrem großen Einstellbereich von 1:1000 reduzieren sie deutlich die Typenvielfalt, den Ersatzteilbedarf und die Investitionskosten. 2 Baugrößen genügen, um einen Dosierbereich von 6 ml/h bis 15 l/h zu überdecken.

Werkstoffausstattung:

Mit einer anwendungsoptimierten Werkstoffausstattung mit PP-, PVC-, PVDF-, PTFE- und Edelstahl-Pumpenköpfen wird einer maximalen Chemikalienbeständigkeit mit vielseitigsten Einsatzmöglichkeiten Rechnung getragen. Besonders in ihrer Voll-PTFE-Ausführung sind die Dosierpumpen für nahezu alle aggressiven Fluide, Säuren, Laugen oder Lösungsmittel, für hochreine Prozesse und metallfreie Anwendungen geeignet. In dieser Ausführung sind alle fluidberührenden Bauteile, d.h. der Pumpenkopf, die Fluidverschraubungen, die Kugelventile, die Voll-PTFE-Membran und die Pumpenkopfentlüftung aus virginalen Reinst-PTFE gefertigt und gewährleisten eine ultimative Chemikalienbeständigkeit. Dosieraufgaben in der Halbleitertechnik mit Ansprüchen an maximale Produktreinheit und Metallfreiheit bis in den ppb-Bereich können sichergestellt werden.

Montag, 10. Juli 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Flujo 01 mit kühlbaren Pumpenkopf


Flujo 01 - Peripheralradpumpen mit kühlbarem Pumpenkopf verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Kühlbare Flujo 01 – Pumpen werden dann eingesetzt, wenn verfahrensbedingt geforderte Fluidtemperaturen konstant zu halten oder Ausgasungseffekte (und Kavitationen) während des Förderprozesses zu vermeiden sind.

Die Kühlung des Pumpenkopfes kann in 2 Ausführungen vorgenommen werden.

In einfacher Ausführung wird der Pumpenkopf gekühlt, indem ein Kühlmittelkreislauf zwischen einem Kryostat oder einem Kaltwasser-Anschluss und der im Pumpenkopf eingearbeiteten Kühlkammer hergestellt wird.

In einer erweiterten Ausführung wird in den Kühlmittelkreislauf neben der Kühlung des Pumpenkopfes auch die Kühlung des Spalttopfes einbezogen. In diesem Falle wird die Pumpe in einer Doppelspalttopf-Konstruktion ausgeführt. Diese Ausführung bietet sich vor allem dann an, wenn Fluide mit niedrigem Siedepunkt zu fördern und gleichzeitg Wärmeentwicklungen durch den magnetischen Pumpenantrieb im Spalttopfbereich begrenzt oder vermieden werden sollen.

Montag, 3. Juli 2017

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 Kleinzirkulatoren

Ziclon 04- Kleinzirkulatoren sind spezielle, ölfreie Drehschieberpumpen. Sie bestehen im Wesentlichen aus dem Antriebsmotor, dem Gehäusering und dem Rotor mit Verdrängerplatten. Sie sind in Abhängigkeit ihrer Anwendung für einfache Gasförderungen, in spezieller Anpassung in der Forschung und Verfahrensentwicklung und für anspruchsvollste Chemie- und Prozessanwendungen ausgelegt.

Im Rotor (Läufer) sind mehrere Rotorschlitze eingearbeitet, in denen Verdrängerplatten (Schieber) eingesetzt sind. Diese sind fliegend gelagert und legen sich durch die Fliehkraft an die Gehäusewand an. Je nach Anzahl der im Rotor eingesetzten Schieber transportieren die entstehenden Förderkammern das Gas von der Saug- zur Druckseite der Gasförderpumpe.

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen werden grundsätzlich in einer magnetgekuppelten Auslegung hergestellt. Sie sind deshalb hermetisch dicht und bestehen auch die Helium-Dichtheitsprüfung.

Sie können sowohl als Förderpumpe als auch als Verdichter- oder Vakuumpumpe genutzt werden. Z04-Kleinzirkulatoren sind in der Forschung und Verfahrensentwicklung, für die Förderung aggressiver Gase und Gasgemische, heißer oder radioaktiv kontaminierter Gase, in Hochdruckprozessen, aber auch für Reinstgase und als Bypasspumpe für Gasanalyse-Systeme einsetzbar.

Freitag, 30. Juni 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinförder-Mischpumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralmischer sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidunggefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira E02 – Peripheralmischer sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für das Fördern, das Mischen oder das Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel, das Mischen und Emulgieren schwer miteinander mischbarer Fluide oder das Einmischen von Gasen in Flüssigkeiten, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern Peripheralmischer ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Dienstag, 27. Juni 2017

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Espira 02 Prozessreaktoren

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind magnetgekuppelte Kleinförderpumpen, ausgelegt für anspruchsvolle Misch-, Verdünnungs- und Homogenisierungsansprüche, auch unter harschen, aggressiven Chemikalienbedingungen im Laborbereich, in der Verfahrensentwicklung und in der Kleinproduktion. Sie verfügen im Wesentlichen den gleichen konstruktiven Aufbau einer Peripheralradpumpe mit Förderkanal und Unterbrechersteg und dem typischen Peripheralrad mit anwendungsspezifischer Auslegung der peripheren Förderzellen. Der Pumpenkopf wird jedoch zusätzlich mit einem oder mehreren Fluidanschlüssen ausgerüstet, um den Reaktions- Misch- Prozess unmittelbar im Pumpenkopf umsetzen zu können.

Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in den peripheren Förderzellen, zu einem Druckausgleich über das Laufrad und zu einer intensiven Vermischung mit dem Fluid im Förderkanal. Dieser für Peripheralradmischer charakteristische Impulsaustausch ist die Grundlage für intensive Mischvorgänge und schnelle Reaktionsabläufe innerhalb des Pumpenkopfes.

Espira 02 – Prozess-Peripheralreaktoren stellen deshalb für viele Prozesse eine effektive und wirtschaftliche Alternative zu großvolumigen Rührbehältern oder Rührbehälternkaskaden, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern dar.

Montag, 26. Juni 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Freitag, 23. Juni 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Laufrad

Das Laufrad einer Peripheralradpumpe besitzt beidseitig radial über den Umfang angeordnete, anwendungskonform ausgebildete Förderzellen. Im Zusammenspiel von Laufrad, Förderkanal und Unterbrechersteg realisiert die Peripheralradpumpe eine nahezu lineare Kennlinie. Das Laufrad spielt bei der Auslegung der Pumpe eine entscheidende Größe. Durchmesser, Breite, Anzahl und Anordnung der Förderzellen erlauben die zielgenaue Auslegung auf den gewünschten Betriebspunkt und somit einen energieeffizienten Einsatz der Pumpe. 

Ein Standard-Laufrad verfügt in aller Regel auf jeder Seite über ca. 20 - 30 symmetrisch oder asymmetrisch angeordnete Förderzellen. 

Ein Laufrad mit größerer Anzahl gleichmäßig über den Umfang angeordneter Förderzellen erreicht einen höheren Druckaufbau und eine intensive Durchmischung des Fluides während des Durchganges durch den Pumpenkopf. 

Laufräder mit breiteren und zu dem asymmetrisch angeordneten Förderzellen eignen sich für das Fördern viskoser Fluide. Peripheralradpumpen können durchaus Fluide mit Viskositäten von 2000 – 3000 mPas fördern. 

Laufräder mit beidseitig bis zur Laufradnabe ausgebildeten Förderzellen und mit gezielter Zuordnung zu den Ausgleichsbohrungen erlauben die Förderung von Fluiden mit hohem Gasanteil bzw. einem gezielten Gaseintrag. Gasanteile bis zu 50% können mit diesen speziell angepassten Pumpen gefördert werden.

Donnerstag, 22. Juni 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Flujo 01 Mehrphasenpumpen

Flujo 01 - Peripheralradpumpen für erhöhten Gaseintrag verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Flujo 01 – Mehrphasenpumpen machen sich vor allem die Fähigkeit des Peripheralradprinzips zunutze, hohe Gasanteile im Fluid mitfördern zu können. Sie sind deshalb besonders für die Förderung von Fluiden mit niedrigem Siedepunkt, für Austragsprozesse in Destillationsanlagen, für das Fördern von Flüssigkeiten mit gelösten Gasanteilen oder Flüssig-/Gasgemische geeignet. In der Wasser-/Abwasserbehandlung kommen sie als sogenannte fluji01ph7n in der Begasungsflotation oder Denitrifikation zum Einsatz.

Mit speziellen Laufradgeometrien können im Einzelfall Gasanteile von bis zu 50Vol-% im Fluid mitgefördert werden.