Mittwoch, 20. September 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Mehrphasenpumpen

Flujo 01 - Peripheralradpumpen für erhöhten Gaseintrag verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Flujo 01 – Mehrphasenpumpen machen sich vor allem die Fähigkeit des Peripheralradprinzips zunutze, hohe Gasanteile im Fluid mitfördern zu können. Sie sind deshalb besonders für die Förderung von Fluiden mit niedrigem Siedepunkt, für Austragsprozesse in Destillationsanlagen, für das Fördern von Flüssigkeiten mit gelösten Gasanteilen oder Flüssig-/Gasgemische geeignet. In der Wasser-/Abwasserbehandlung kommen sie als sogenannte Mehrphasenpumpen in der Begasungsflotation oder Denitrifikation zum Einsatz.

Mit speziellen Laufradgeometrien können im Einzelfall Gasanteile von bis zu 50Vol-% im Fluid mitgefördert werden.

Dienstag, 19. September 2017

Die sichere Dosierung von Flüssigkeiten und Gasen in explosionsgefährdeten Betriebsstätten der Zonen 1 und 2 mit Dosierpumpen der Zündschutzart Ex p.

Werkstoffausstattung:

Die Ex-Schutz-Sicherheit

Der Ex-Schutz der Dosierpumpe Ritmo®05 Ex wird durch eine Überdruck-Beaufschlagung des hermetisch dichtes Pumpengehäuse sichergestellt. Das Pumpengehäuse ist in IP54 ausgeführt und verfügt über eine Ex-e Zulassung.

Über einen Spülanschluss wird das Ex-Gehäuse mit einem Überdruck von 5 - 8 mbar beaufschlagt. Dazu wird Luft-/Druckluft oder Stickstoff in das Gehäuse geleitet. Der Überdruck im Pumpengehäuse verhindert ein Eindringen von explosionsgefährdender Atmosphäre in das Pumpengehäuse.

Ein im Pumpengehäuse befindliches Ex-p Steuergerät mit Spül- und Druckregelfunktion und eine Proportionalventiltechnik mit automatischem Leckage-Ausgleich sichern die Aufrechterhaltung des Gehäuse-Überdruckes. Im Vergleich zu einer Standard-Dosierpumpe R05 wird der außerhalb des Ex-Gehäuses befindliche Pumpenkopf vom Ex -Gehäuse entkoppelt. Eine Undichtheit der Membran oder ein Membranriss führt nicht zu einem Eindringen von Dosierflüssigkeit oder Gas in das ex-geschützte Gehäuse.

Externe Ansteuerung und Automatisierungsfähigkeit unter Ex-Schutz-Bedingungen

Die Dosierpumpe Ritmo®05 Ex kann über Start/Stop, über eine Analog-Schnittstelle 4-20 mA und über eine digitale RS232-Schnittstelle betrieben werden. Ex-ausgeführte Schnittstellenrelais in einem Ex-ausgeführtem Klemmenkasten trennen die Eingangssignale von der Pumpe.

Montag, 18. September 2017

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 Kleinzirkulatoren

Werkstoffausstattung:

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen und aggressive Gasanwendungen ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) hergestellt. Die Verdrängerplatten sind aus einer SiC-Keramik, PEEK oder einer Spezialkohle und bedürfen keiner Schmierung.

Einsatzbedingungen:

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen werden in ihrer Auslegung an anspruchsvollste Einsatzbedingungen angepasst. Dazu gehören Prozesstemperaturen bis 300°C, Systemdrücke bis 400 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen.

Die Gasanschlüsse

Für die Gasanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen in den Prozess zum Einsatz

Freitag, 15. September 2017

Die pH-gesteuerte Dosierung mit integriertem Regelmodul, zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausführung

pH-Regelung

Die Dosierpumpe R05-pH kann sowohl als Standarddosierpumpe (ohne pH-Regelung) oder auch als pH-geregelte Dosierpumpe eingesetzt werden.

Ein zusätzlicher Regler ist nicht mehr erforderlich.

Der in der Dosierpumpe integrierte Regler ist als vollwertiger PID-Regler ausgelegt.

Für den pH-geregelten Einsatz wird die Dosierpumpe in den „externen“ Modus gesetzt und die pH-Sonde direkt an der Vorderseite der Pumpe angeschlossen. Die Pumpe erkennt die pH-Sonde, sobald sie an der dafür vorgesehenen Schnittstelle angeschlossen ist.

Den Soll-pH-Wert gibt der Anwender manuell am Display der Pumpe vor.

Der von der pH-Sonde gemessene Ist-pH-Wert wird an die Dosierpumpe übertragen, durch die pH-Regeleinheit mit dem Sollwert abgeglichen und die Nachdosierung des geeigneten sauren oder basischen Fluids ausgelöst.

Der Dosiervorgang erfolgt mit den für R05-Dosierpumpen typischem langsamen und pulsationsarmen Ausstoßvorgang. Auch bei kleinsten Dosiermengen ist das Dosier- und Regelverhalten der R05-pH reproduzierbar und gleichmäßig.

Zudem können die Regelparameter für den P-, I- und D-Anteil vom Anwender in Abhängigkeit seines Prozesses eingestellt oder auch nachjustiert werden.

pH-abhängige Reaktionen sind deshalb extrem genau, pulsationsarm und ohne gravierende Regelamplituden dem Soll-pH-Wert nachregelbar, um einen möglichst konstanten pH-Wert zu sichern und optimale Reaktionsergebnisse zu erzielen.

Dienstag, 12. September 2017

Schneckenlangsam mit extrem langen Ausstoßzeiten und Pulsationsfreiheit einer Mikrodosierung mit zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausstattung

Pulsationsfreie Mikrodosierpumpen Ritmo®05 PF-D

Ritmo®05 PF-D (PF-D = pulsfrei Druckseite) verfügen über die gleichen konstruktiven Charakteristika und Vorteile einer Dosierpumpe Ritmo®05. Sie sind in Voll-PTFE für alle fluidberührten Komponenten ausgerüstet, verfügen über zwangsgesteuerte Ventile und eine hochauflösende Schrittmotortechnik.

Pulsationsfreie Mikrodosierpumpen Ritmo®05 PF sind gegenüber den Dosierpumpen Ritmo®05 jedoch mit einem größeren Kammervolumen, einer hochauflösenden Schrittmotortechnik und einer eigens dafür entwickelten Software ausgestattet.

Das Pumpenkammervolumen wird über einen geeigneten Ansaugstutzen in der max. möglichen Ansauggeschwindigkeit gefüllt. Dagegen ist der Ausstoß „schneckenlangsam“. Das angesaugte Fluid wird in Abhängigkeit der gewünschten Dosierrate langsam und schonend ausgestoßen. Im Extremfall dauert der Ausstoßvorgang über 12 Stunden (bei minimaler Dosierrate von 15 µl/min).

Eine oszillierende, pulsationsbehaftete Membrandosierpumpe wird unter diesen konstruktiven Besonderheiten zu einer pulsationsfreien Mikrodosierpumpen und somit zu einer ernsthaften Alternative einer Spritzenpumpe.
    Die Vorteile liegen auf der Hand:
  • absoluter PTFE-Chemikalienbeständigkeit
  • hermetisch dichte Membran- und Ventiltechnik
  • kein Verschleppen aggressiver, feuchteempfindlicher Fluide hinter den Spritzenkolben
  • Unbegrenzter Contibetrieb (kein Wechsel des Spritzenkörpers)
  • Feststoff-tolerant (bei Bedarf mit Spülfunktion)
  • Umkehr der Dosierrichtung mit Returnfunktion zum Entleeren, Spülen und Trocknen des Pumpenkopfes
Die Mikrodosierpumpen sind zudem mit beheizbaren oder kühlbaren Pumpenköpfen lieferbar.

Montag, 11. September 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 in Hochtemperaturauslegung

Flujo 01 - Peripheralradpumpen in Hochtemperaturauslegung verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Hochtemperatur - Flujo 01 - Pumpen sind speziell für Verfahren mit hohen Prozesstemperaturen vorgesehen. Sie werden stets für den konkreten Anwendungsfall berechnet und ausgelegt. Konstruktiv sind vor allem die teils extrem unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten der zum Einsatz kommenden Werkstoffe und die Temperaturabhängigkeit der Antriebsmagnete zu berücksichtigen. Beheizbare Pumpenköpfe, separat beheizbare Lagergehäuse, entkoppelte, teils kühlbare Antriebslaternen, separate Spalttopfspülungen und –entleerungen oder auch spezielle Betriebsweisen machen die Konstruktion dieser Pumpen zu einer sehr komplexen Aufgabe. Im Einzelfall wurden Peripheralradpumpen für Fluidtemperaturen bis 450°C ausgelegt.

Freitag, 8. September 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Dienstag, 5. September 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Laufrad

Das Laufrad einer Peripheralradpumpe besitzt beidseitig radial über den Umfang angeordnete, anwendungskonform ausgebildete Förderzellen. Im Zusammenspiel von Laufrad, Förderkanal und Unterbrechersteg realisiert die Peripheralradpumpe eine nahezu lineare Kennlinie. Das Laufrad spielt bei der Auslegung der Pumpe eine entscheidende Größe. Durchmesser, Breite, Anzahl und Anordnung der Förderzellen erlauben die zielgenaue Auslegung auf den gewünschten Betriebspunkt und somit einen energieeffizienten Einsatz der Pumpe. 

Ein Standard-Laufrad verfügt in aller Regel auf jeder Seite über ca. 20 - 30 symmetrisch oder asymmetrisch angeordnete Förderzellen. 

Ein Laufrad mit größerer Anzahl gleichmäßig über den Umfang angeordneter Förderzellenerreicht einen höheren Druckaufbau und eine intensive Durchmischung des Fluides während des Durchganges durch den Pumpenkopf. 

Laufräder mit breiteren und zu dem asymmetrisch angeordneten Förderzellen eignen sich für das Fördern viskoser Fluide. Peripheralradpumpen können durchaus Fluide mit Viskositäten von 2000 – 3000 mPas fördern. 

Laufräder mit beidseitig bis zur Laufradnabe ausgebildeten Förderzellen und mit gezielter Zuordnung zu den Ausgleichsbohrungen erlauben die Förderung von Fluiden mit hohem Gasanteil bzw. einem gezielten Gaseintrag. Gasanteile bis zu 50% können mit diesen speziell angepassten Pumpen gefördert werden.

Montag, 4. September 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Prozesspumpen

Espira 02 – Prozess-Mischpumpen sind magnetgekuppelte Peripheralradpumpen, ausgelegt für anspruchsvolle Misch-, Verdünnungs- und Homogenisierungsansprüche, auch unter harschen, aggressiven Chemikalienbedingungen, in der Verfahrensentwicklung und für Chemie- und Prozessanwendungen. Sie verfügen im Wesentlichen den gleichen konstruktiven Aufbau einer Peripheralradpumpe mit Förderkanal und Unterbrechersteg und dem typischen Peripheralrad mit anwendungsspezifischer Auslegung der peripheren Förderzellen. Der Pumpenkopf wird jedoch zusätzlich mit einem oder mehreren Fluidanschlüssen ausgerüstet, um den Misch-, Verdünnungs- oder Homogenisierungsprozess unmittelbar im Pumpenkopf umsetzen zu können.

Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in den peripheren Förderzellen, zu einem Druckausgleich über das Laufrad und zu einer intensiven Vermischung mit dem Fluid im Förderkanal. Dieser für Peripheralradmischer charakteristische Impulsaustausch ist die Grundlage für einen intensiven Mischprozess innerhalb des Pumpenkopfes und somit auch während des Fördervorganges.

Espira 02 – Prozess-Mischpumpen stellen deshalb für viele Prozesse eine effektive und wirtschaftliche Alternative zu großvolumigen Rührbehältern oder Rührbehälternkaskaden, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern dar.