Freitag, 31. März 2017

Gaszirkulationspumpen - Fink Chem+Tec GmbH

Gaszirkulationspumpen

Sie sind absolut richtig, wenn Sie nach Gaszirkulationspumpen der ehemaligen K-Engineering gesucht haben !

Die K-Engineering wurde zum 01.01.2015 von der Fink Chem+Tec GmbH übernommen. Eine Bündelung des Know how im Liquid-Handlung, bestehend aus speziellen chemiekalienbeständigen Dosierpumpen der Fink Chem + Tec und speziellen, ebenfalls chemienfesten Kleinförderpumpen, Misch- und Reaktionspumpen sowie Gaszirkulationspumpen der K-Engineering ließ uns diesen Schritt logisch und konsequent erscheinen. 

Der Vorteil für den Kunden bzw. Anwender liegt auf der Hand: 
ein umfassendes Leistungsspektrum für das Liquid-Handlung aggressivester Säuren, Laugen, Lösungsmittel und Gase.
Die Gaszirkulationspumpen der Baureihe HMZ finden Sie nun auf der website der Fink Chem+Tec GmbH unter der Bezeichnung Ziclon Z04. Die Verlinkung führt Sie sofort auf die zutreffenden Beschreibungen und Erläuterungen.

Die neuen Typenklassifizierungen schaffen Ihnen eine übersichtliche Zuordnung zu den Leistungsparametern Ihrer Gaszirkulationspumpe. Sie benennt den max. Volumenstrom bei 0 bar Gegendruck.In ihren technischen Ausführungen sind die Ziclon-Pumpen den bisherigen HMZ-Pumpen jedoch identisch. Sprechen Sie uns bei weiteren Fragen dazu einfach an.

Für anwendungsspezifische Parameter, welche durch die Standard-Ziclon-Pumpen nicht abgedeckt werden können, lassen Sie uns bitte die für Ihre Anwendung erforderlichen Parameter per E-Mail oder Telefonat zukommen. Wir werden auf dieser Basis die für Sie geeignete Pumpe berechnen und auslegen. Vertrauen Sie auf unser Know how, welches durch die Mitarbeiter der ehemaligen K-Engineering begründet ist.

Montag, 27. März 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Espira 02 Prozesspumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung gefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Verfahrensentwicklung und in Prozessanwendungen für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmitteln oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, DIN-Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Freitag, 24. März 2017

Schneckenlangsam mit extrem langen Ausstoßzeiten und Pulsationsfreiheit einer Mikrodosierung mit zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausstattung

Pulsationsfreie Mikrodosierpumpen Ritmo®05 PF-D

Ritmo®05 PF-D (PF-D = pulsfrei Druckseite) verfügen über die gleichen konstruktiven Charakteristika und Vorteile einer Dosierpumpe Ritmo®05. Sie sind in Voll-PTFE für alle fluidberührten Komponenten ausgerüstet, verfügen über zwangsgesteuerte Ventile und eine hochauflösende Schrittmotortechnik.

Pulsationsfreie Mikrodosierpumpen Ritmo®05 PF sind gegenüber den Dosierpumpen Ritmo®05 jedoch mit einem größeren Kammervolumen, einer hochauflösenden Schrittmotortechnik und einer eigens dafür entwickelten Software ausgestattet.

Das Pumpenkammervolumen wird über einen geeigneten Ansaugstutzen in der max. möglichen Ansauggeschwindigkeit gefüllt. Dagegen ist der Ausstoß „schneckenlangsam“. Das angesaugte Fluid wird in Abhängigkeit der gewünschten Dosierrate langsam und schonend ausgestoßen. Im Extremfall dauert der Ausstoßvorgang über 12 Stunden (bei minimaler Dosierrate von 15 µl/min).

Eine oszillierende, pulsationsbehaftete Membrandosierpumpe wird unter diesen konstruktiven Besonderheiten zu einer pulsationsfreien Mikrodosierpumpen und somit zu einer ernsthaften Alternative einer Spritzenpumpe.
    Die Vorteile liegen auf der Hand:
  • absoluter PTFE-Chemikalienbeständigkeit
  • hermetisch dichte Membran- und Ventiltechnik
  • kein Verschleppen aggressiver, feuchteempfindlicher Fluide hinter den Spritzenkolben
  • Unbegrenzter Contibetrieb (kein Wechsel des Spritzenkörpers)
  • Feststoff-tolerant (bei Bedarf mit Spülfunktion)
  • Umkehr der Dosierrichtung mit Returnfunktion zum Entleeren, Spülen und Trocknen des Pumpenkopfes
Die Mikrodosierpumpen sind zudem mit beheizbaren oder kühlbaren Pumpenköpfen lieferbar.

Montag, 20. März 2017

Die Robustheit und Intelligenz einer Dosierung mit flexiblen Montageoptionen, großem Einstellbereich und intelligenter Drucksensorik.

Ritmo®031-Dosierpumpen

sind trotz anspruchsvoller Schrittmotortechnik durch ihren extrem großen Einstellbereich und der Reduzierung der Typenvielfalt universelle, preiswerte und ökonomische Kleinmengen-Dosierpumpen, quasi die kostensparende Einstiegsvariante für eine Unzahl von Anwendungen von der Wasser- und Abwasserbehandlung bis hin zu einfachen, chemischen Applikationen.

Technik:

Ritmo®031 Dosierpumpen sind schrittmotorgetriebene Membrandosierpumpen mit robustem Pleuelantrieb, optimiertem totraumarmen Pumpenkopf, integriertem Entlüftungsventil und Doppelkugelventiltechnik. Sie repräsentieren mit nur 2 Baugrößen die Basisversion der modular aufgebauten und mit einer drehzahlgeregelten Schrittmotortechnik ausgestatteten Baureihe der Ritmo®030-Dosierpumpen. Mit ihrem extrem großen Einstellbereich von 1:1000 reduzieren sie deutlich die Typenvielfalt, den Ersatzteilbedarf und die Investitionskosten. 2 Baugrößen genügen, um einen Dosierbereich von 6 ml/h bis 15 l/h zu überdecken.

Werkstoffausstattung:

Mit einer anwendungsoptimierten Werkstoffausstattung mit PP-, PVC-, PVDF-, PTFE- und Edelstahl-Pumpenköpfen wird einer maximalen Chemikalienbeständigkeit mit vielseitigsten Einsatzmöglichkeiten Rechnung getragen. Besonders in ihrer Voll-PTFE-Ausführung sind die Dosierpumpen für nahezu alle aggressiven Fluide, Säuren, Laugen oder Lösungsmittel, für hochreine Prozesse und metallfreie Anwendungen geeignet. In dieser Ausführung sind alle fluidberührenden Bauteile, d.h. der Pumpenkopf, die Fluidverschraubungen, die Kugelventile, die Voll-PTFE-Membran und die Pumpenkopfentlüftung aus virginalen Reinst-PTFE gefertigt und gewährleisten eine ultimative Chemikalienbeständigkeit. Dosieraufgaben in der Halbleitertechnik mit Ansprüchen an maximale Produktreinheit und Metallfreiheit bis in den ppb-Bereich können sichergestellt werden.

Freitag, 17. März 2017

Espira 02 Kleinförder-Mischpumpen - Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinförder-Mischpumpen


Espira 02 – Peripheralmischpumpen sind magnetgekuppelte Kleinförderpumpen, ausgelegt für anspruchsvolle Misch-, Verdünnungs- und Homogenisierungsansprüche, auch unter harschen, aggressiven Chemikalienbedingungen im Laborbereich, in der Verfahrensentwicklung und in der Kleinproduktion. Sie verfügen im Wesentlichen den gleichen konstruktiven Aufbau einer Peripheralradpumpe mit Förderkanal und Unterbrechersteg und dem typischen Peripheralrad mit anwendungsspezifischer Auslegung der peripheren Förderzellen. Der Pumpenkopf wird jedoch zusätzlich mit einem oder mehreren Fluidanschlüssen ausgerüstet, um den Misch-, Verdünnungs- oder Homogenisierungsprozess unmittelbar im Pumpenkopf umsetzen zu können. 

Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in den peripheren Förderzellen, zu einem Druckausgleich über das Laufrad und zu einer intensiven Vermischung mit dem Fluid im Förderkanal. Dieser für Peripheralradmischer charakteristische Impulsaustausch ist die Grundlage für einen intensiven Mischprozess innerhalb des Pumpenkopfes und somit auch während des Fördervorganges. 

Espira 02 - Mischpumpen stellen deshalb für viele Prozesse eine effektive und wirtschaftliche Alternative zu Rührbehältern, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern dar. Im Labormaßstab, in der Verfahrensentwicklung und Kleinmengenproduktion können Peripheralmischpumpen durch ihre Toleranz gegenüber Feststoff- oder Gasanteilen durchaus auch Alternativen zu mikrokanal-strukturierten Mischaggregaten bieten.

Montag, 13. März 2017

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 in anwendungsspezifischer Auslegung

Ziclon 04- Gaszirkulatoren in anwendungsspezifischer Auslegung verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Klein- und Prozess-Gaszirkulationspumpen. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Gaszirkulationspumpen mit beheizbarem Pumpenkopf werden dann eingesetzt, wenn hohe Prozesstemperaturen erforderlich sind, diese während des Prozesses konstant zu halten und Rückkondensationen im Pumpenkopf zu vermeiden sind. Die Beheizung des Pumpenkopfes kann elektrisch oder mit einem Wärmeträgermedium erfolgen.

Gaszirkulationspumpen mit kühlbarem Pumpenkopf bieten sich an, wenn gekühlte Verfahrensprozesse sicher zu stellen sind und eine Erwärmung während des Pumpvorganges im Pumpenkopf zu vermeiden ist. Der Pumpenkopf kann an einen Kältekreislauf angeschlossen werden.

Gaszirkulationspumpen für hohe hohe Prozessdrücke kommen immer dann zum Einsatz, wenn die Prozesse oder Reaktionsstufen verfahrensbedingt hohe Prozessdrücke erforderlich machen. Ziclon 04 – Gaszirkulatoren können bis zu Systemdrücken von 400 bar ausgelegt werden.

Gaszirkulationspumpen in verschleissarmer Ausführung sind vor allem dort gefragt, wo Prozesse mit höchster Gasreinheit umgesetzt werden oder in welchen besonders hohe Standzeiten erreicht werden müssen. Bei Förderprozessen mit höchster Gasreinheit wird der Partikeleintrag in den Gasförderstrom in erster Linie mit einer reduziert kontrollierten Motordrehzahl bei gleichzeitiger Sicherstellung der Anpresskräfte der Drehschieber an die Pumpenkopf-Laufflächen minimiert. Speziell gehärtete Laufflächen oder Keramikeinsätze und spezielle Verdrängerplatten reduzieren ebenfalls einen Partikeleintrag in den Gasstrom. Im konkreten Einzelfall bitten wir um Rücksprache, um Ihre Anwendung zielgenau lösen zu können. Ähnliche Massnahmen bieten sich auch bei sehr langen Betriebsstandzeiten an.

Gaszirkulationspumpen mit prozessangepasstem Drehzahlverhalten können mit einem externen Frequenzumrichter oder auch einem am Antriebsmotor aufgesetzten Frequenzumrichter ausgestattet werden. Über die Funktionalität des Freqenzumrichters kann das Anfahrverhalten der Pumpe (Sanftanlauf), verfahrensabhängige Förderströme, verschleissreduzierendes Drehzahlverhalten oder auch ein energieeffizientes Arbeiten angepasst werden.

Gaszirkulationspumpen mit atexkonformer Auslegung sichern eine sichere Förderung von Gasen in explosionsgefährdeten Betriebsstätten. Die Ex-Schutzklassifizierung der Betriebsstätte gibt die Auslegung von Antriebsmotor und Pumpenkopf vor und wird bei der Auslegung der Pumpe zugrunde gelegt. Es ist deshalb zu beachten, dass wir keine PTB-abgenommenen Pumpen, sondern die jeweilige Pumpe in atexkonformer Auslegung mit zugehöriger Zertifizierung anbieten.

Freitag, 3. März 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Prozesspumpen

Espira 02 – Prozess-Mischpumpen sind magnetgekuppelte Peripheralradpumpen, ausgelegt für anspruchsvolle Misch-, Verdünnungs- und Homogenisierungsansprüche, auch unter harschen, aggressiven Chemikalienbedingungen, in der Verfahrensentwicklung und für Chemie- und Prozessanwendungen. Sie verfügen im Wesentlichen den gleichen konstruktiven Aufbau einer Peripheralradpumpe mit Förderkanal und Unterbrechersteg und dem typischen Peripheralrad mit anwendungsspezifischer Auslegung der peripheren Förderzellen. Der Pumpenkopf wird jedoch zusätzlich mit einem oder mehreren Fluidanschlüssen ausgerüstet, um den Misch-, Verdünnungs- oder Homogenisierungsprozess unmittelbar im Pumpenkopf umsetzen zu können.

Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in den peripheren Förderzellen, zu einem Druckausgleich über das Laufrad und zu einer intensiven Vermischung mit dem Fluid im Förderkanal. Dieser für Peripheralradmischer charakteristische Impulsaustausch ist die Grundlage für einen intensiven Mischprozess innerhalb des Pumpenkopfes und somit auch während des Fördervorganges.

Espira 02 – Prozess-Mischpumpen stellen deshalb für viele Prozesse eine effektive und wirtschaftliche Alternative zu großvolumigen Rührbehältern oder Rührbehälternkaskaden, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern dar.