Die sichere Dosierung von Flüssigkeiten und Gasen in explosionsgefährdeten Betriebsstätten der Zonen 1 und 2 mit Dosierpumpen der Zündschutzart Ex p.

Werkstoffausstattung:

Alle fluidberührenden Bauteile, d.h. Ventile, Membran und der Dosierkopf sind aus virginalem Reinst-PTFE und speziellen PTFE-Modifiziereungen gefertigt und gewährleisten eine ultimative Chemikalienbeständigkeit. Es gibt keine weiteren Werkstoffe, Dichtungen oder Ventile, welche die Chemikalienbeständigkeit einschränken.

Ritmo®Dosierpumpen können deshalb nahezu alle aggressiven Fluide und Gase, Säuren, Laugen, Lösungsmittel dosieren.

Sie können auch Dosier- oder Förderaufgaben mit höchster Reinheitsstufe und absoluter Metallfreiheit bis in den ppb-Bereich, z.B. in der Halbleitertechnik übernehmen.

Nicht zuletzt erlaubt die PTFE-Ausstattung die Ausstellung der FDA-Konformition.

Ventiltechnik:

Ritmo®05-EX-Dosierpumpen unterscheiden sich gravierend von Membrandosierpumpen mit üblicherweise eingesetzter Kugelventiltechnik. R05-EX-Dosierpumpen arbeiten mit kleinen Ventilmembranen. Diese Ventile werden über Hubmagnete getaktet und sichern absolut dichte Arbeitszustände und eine hohe Vakuumtauglichkeit der Dosierpumpe.

Zwangsgesteuerte Ventile gewährleisten ein unempfindliches Dosierverhalten gegenüber Gasblasen im Fluid, Ausgasungseffekten bei Flüssigkeiten mit hohem Dampfdruck oder Gaseinbrüchen durch Undichtheiten oder geleerter Dosierleitungen.

Ritmo®05-Dosierpumpen sind deshalb absolut selbstansaugend, absolut dicht zwischen Saug- und Druckseite und müssen weder entlüftet noch befüllt oder gegen Trockenlauf geschützt werden.

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind für einfache Misch- und Reaktionsabläufe während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in vielfältigen Prozessen für die Förderung, das Mischen, Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder für schnelle Reaktionsabläufe zwischen Fluid / Fluid oder auch Fluid / Gas, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Die Robustheit und Intelligenz einer Dosierung mit flexiblen Montageoptionen, großem Einstellbereich und intelligenter Drucksensorik.

Die Fluidverbindungen

Die Fluidanschlüsse werden in Abhängigkeit der Pumpenkopfausführung ausgewählt.

Edelstahl-Pumpenköpfe werden z.B. mit einem ¼“ Innengewinde ausgestattet, in welches handelsübliche Schneidringverschraubungen angeschlossen werden können.

PTFE-Pumpenköpfe werden in konsequenter Fortsetzung höchster Chemikalienbeständigkeit mit GL-Verschraubungen mit Klemm- und Dichtring in Voll-PTFE ausgestattet.

Einbauflexibilität

Maximale Einbauflexibilität durch eine universelle Montageplatte mit Klick-Funktion für eine schnelle Montage- oder Wechselmöglichkeit der Dosierpumpe ist für alle Modelle verfügbar. Für Wartungsarbeiten wird die Pumpe einfach von der Montageplatte genommen und später wieder in die Montageplatte eingerastet.

Durch einen drehbaren Bedienkubus (grün) können unterschiedliche Einbausituationen in Produktionsanlagen, Dosierstationen oder Pilotanlagen berücksichtigt werden, ohne zusätzliche Wandkonsolen zu installieren.

Willkommen bei der Fink Chem + Tec GmbH

Die Fink Chem+Tec GmbH hat sich seit vielen Jahren der Entwicklung und Herstellung spezialisierter Dosierpumpen, Mikrodosierpumpen, Mischpumpen und Hochdruckpumpen verschrieben. Sie finden in erster Linie Anwendung in der Chemie- und Pharmaindustrie, speziell in den Laboren von Forschung und Entwicklung, in der Prozessentwicklung und Verfahrensoptimierung, aber auch im industriellen Einsatz als Kleinstmengendosierpumpe in Reaktions-, Misch oder Produktionsprozesse.

Vor allem die Membrandosierpumpen der Baureihe Ritmo®-05 zeichnen sich in ihrer Voll-PTFE-Ausführung durch eine ultimative Chemikalienbeständigkeit aus. Zwangsgesteuerte Ventile sichern absolute Dichtheit und Vakuumtauglichkeit. Hochdruckdosierpumpen der Baureihe Carino 09 wiederum sind in dualen Antriebstechnik konzipiert. Intelligente R030-Dosierpumpen verfügen über eine integrierte Druck- und Durchflussmesstechnik. 

Mit der Übernahme der Firma K-Engineering wurde das Lieferprogramm um Peripheralradpumpen, Peripheralmischer und -reaktoren und Gaszirkulationspumpen entscheidend vergrößert.

Lassen Sie sich also durch unsere Welt der Dosierpumpen und Abfüllpumpen, der Austragspumpen und Probenahmepumpen, der Gasdosierpumpen und Hochdruckpumpen, aber auch der Gaszirkulationspumpen, Peripheralradpumpen, Peripheralreaktoren und Peripheralmischer begleiten. 

Sie finden ebenso Informationen über beheizbare und kühlbare Dosierpumpen, Kleinförderpumpen in Hochdruckausführung, über vakuumtauglichen Dosierpumpen, über Mischpumpen, pulsfreien Dosierpumpen und Schlauchpumpen. 

Spezielle Applikationen führten zur Entwicklung von Säurepumpen für den Probenaufschluß, für Flußsäureanalytik, Salpetersäure-Entbinderungs-Prozesse, von pH-geregelten Dosierpumpen oder auch zu hochreinen, PTFE-ausgekleideten Pumpen für die Halbleitertechnik und Mehrphasenpumpen mit hoher Gasanreicherung.

Haben Sie nach dem Besuch unserer Internetseite noch weiterführende Fragen, so sprechen Sie uns an, per Telefon, per Fax oder Mail, wie immer Sie wollen.

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Prozesspumpen

Espira 02 – Prozess-Mischpumpen sind magnetgekuppelte Peripheralradpumpen, ausgelegt für anspruchsvolle Misch-, Verdünnungs- und Homogenisierungsansprüche, auch unter harschen, aggressiven Chemikalienbedingungen, in der Verfahrensentwicklung und für Chemie- und Prozessanwendungen. Sie verfügen im Wesentlichen den gleichen konstruktiven Aufbau einer Peripheralradpumpe mit Förderkanal und Unterbrechersteg und dem typischen Peripheralrad mit anwendungsspezifischer Auslegung der peripheren Förderzellen. Der Pumpenkopf wird jedoch zusätzlich mit einem oder mehreren Fluidanschlüssen ausgerüstet, um den Misch-, Verdünnungs- oder Homogenisierungsprozess unmittelbar im Pumpenkopf umsetzen zu können.

Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in den peripheren Förderzellen, zu einem Druckausgleich über das Laufrad und zu einer intensiven Vermischung mit dem Fluid im Förderkanal. Dieser für Peripheralradmischer charakteristische Impulsaustausch ist die Grundlage für einen intensiven Mischprozess innerhalb des Pumpenkopfes und somit auch während des Fördervorganges.

Espira 02 – Prozess-Mischpumpen stellen deshalb für viele Prozesse eine effektive und wirtschaftliche Alternative zu großvolumigen Rührbehältern oder Rührbehälternkaskaden, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern dar.

Die Robustheit und max. Prozeßsicherheit einer Dosierung mit integrierter Drucksensorik

Funktion Maximaldruck:

Der Anwender kann einen max. Druck am Display der Pumpe vorgeben. Übersteigt der Druck im System den eingestellten Maximalwert (z.B. durch ein geschlossenes Ventil in der Druckleitung oder eine verstopfte Dosierleitung oder einen unzulässigen Druckanstieg im Reaktionsbehälter), so stoppt die Drucküberwachungsfunktion sofort den Dosierablauf. Die Display-Anzeige wechselt auf die rote Alarmanzeige. Fällt der Gegendruck wieder unter den Maximalwert, wird der Dosierprozess wieder fortgesetzt.

Der einstellbare Maximaldruck liegt 1 bar über dem maximalen Betriebsdruck und ist vom jeweiligen Pumpentyp abhängig:

• R033-7.5-16 3 - 17 bar
• R033-12-10 3 - 11 bar
• R033 17-7 3 - 8 bar
• R033-30-4 3 - 5 bar

Funktion Minimaldruck:

Der werksseitig eingestellte Minimaldruck beträgt für alle Pumpen < 2 bar. Fällt der Druck unter diesen Grenzwert (z.B. durch eine geplatzte Druckleitung), so stoppt die Drucküberwachungsfunktion sofort den Dosierablauf. Größere Verluste an Chemikalien, Beschädigung von Anlagenkomponenten durch die austretende Chemikalie oder gar menschlicher Gefährdung können vermieden werden. Die Fehlermeldung kann sowohl als Warnung (Pumpe arbeitet noch weiter) oder als Alarm (Pumpe wird sofort gestoppt) eingestellt werden.

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Prozessreaktoren

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind für einfache Misch- und Reaktionsabläufe während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in vielfältigen Prozessen für die Förderung, das Mischen, Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder für schnelle Reaktionsabläufe zwischen Fluid / Fluid oder auch Fluid / Gas, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Laufrad

Das Laufrad einer Peripheralradpumpe besitzt beidseitig radial über den Umfang angeordnete, anwendungskonform ausgebildete Förderzellen. Im Zusammenspiel von Laufrad, Förderkanal und Unterbrechersteg realisiert die Peripheralradpumpe eine nahezu lineare Kennlinie. Das Laufrad spielt bei der Auslegung der Pumpe eine entscheidende Größe. Durchmesser, Breite, Anzahl und Anordnung der Förderzellen erlauben die zielgenaue Auslegung auf den gewünschten Betriebspunkt und somit einen energieeffizienten Einsatz der Pumpe. 

Ein Standard-Laufrad verfügt in aller Regel auf jeder Seite über ca. 20 - 30 symmetrisch oder asymmetrisch angeordnete Förderzellen. 

Ein Laufrad mit größerer Anzahl gleichmäßig über den Umfang angeordneter Förderzellenerreicht einen höheren Druckaufbau und eine intensive Durchmischung des Fluides während des Durchganges durch den Pumpenkopf. 

Laufräder mit breiteren und zudem asymmetrisch angeordneten Förderzellen eignen sich für das Fördern viskoser Fluide. Peripheralradpumpen können durchaus Fluide mit Viskositäten von 2000 – 3000 mPas fördern. 

Laufräder mit beidseitig bis zur Laufradnabe ausgebildeten Förderzellen und mit gezielter Zuordnung zu den Ausgleichsbohrungen erlauben die Förderung von Fluiden mit hohem Gasanteil bzw. einem gezielten Gaseintrag. Gasanteile bis zu 50% können mit diesen speziell angepassten Pumpen gefördert werden.