Freitag, 30. Juni 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinförder-Mischpumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralmischer sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidunggefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira E02 – Peripheralmischer sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für das Fördern, das Mischen oder das Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel, das Mischen und Emulgieren schwer miteinander mischbarer Fluide oder das Einmischen von Gasen in Flüssigkeiten, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern Peripheralmischer ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Dienstag, 27. Juni 2017

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Espira 02 Prozessreaktoren

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind magnetgekuppelte Kleinförderpumpen, ausgelegt für anspruchsvolle Misch-, Verdünnungs- und Homogenisierungsansprüche, auch unter harschen, aggressiven Chemikalienbedingungen im Laborbereich, in der Verfahrensentwicklung und in der Kleinproduktion. Sie verfügen im Wesentlichen den gleichen konstruktiven Aufbau einer Peripheralradpumpe mit Förderkanal und Unterbrechersteg und dem typischen Peripheralrad mit anwendungsspezifischer Auslegung der peripheren Förderzellen. Der Pumpenkopf wird jedoch zusätzlich mit einem oder mehreren Fluidanschlüssen ausgerüstet, um den Reaktions- Misch- Prozess unmittelbar im Pumpenkopf umsetzen zu können.

Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in den peripheren Förderzellen, zu einem Druckausgleich über das Laufrad und zu einer intensiven Vermischung mit dem Fluid im Förderkanal. Dieser für Peripheralradmischer charakteristische Impulsaustausch ist die Grundlage für intensive Mischvorgänge und schnelle Reaktionsabläufe innerhalb des Pumpenkopfes.

Espira 02 – Prozess-Peripheralreaktoren stellen deshalb für viele Prozesse eine effektive und wirtschaftliche Alternative zu großvolumigen Rührbehältern oder Rührbehälternkaskaden, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern dar.

Montag, 26. Juni 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Freitag, 23. Juni 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Laufrad

Das Laufrad einer Peripheralradpumpe besitzt beidseitig radial über den Umfang angeordnete, anwendungskonform ausgebildete Förderzellen. Im Zusammenspiel von Laufrad, Förderkanal und Unterbrechersteg realisiert die Peripheralradpumpe eine nahezu lineare Kennlinie. Das Laufrad spielt bei der Auslegung der Pumpe eine entscheidende Größe. Durchmesser, Breite, Anzahl und Anordnung der Förderzellen erlauben die zielgenaue Auslegung auf den gewünschten Betriebspunkt und somit einen energieeffizienten Einsatz der Pumpe. 

Ein Standard-Laufrad verfügt in aller Regel auf jeder Seite über ca. 20 - 30 symmetrisch oder asymmetrisch angeordnete Förderzellen. 

Ein Laufrad mit größerer Anzahl gleichmäßig über den Umfang angeordneter Förderzellen erreicht einen höheren Druckaufbau und eine intensive Durchmischung des Fluides während des Durchganges durch den Pumpenkopf. 

Laufräder mit breiteren und zu dem asymmetrisch angeordneten Förderzellen eignen sich für das Fördern viskoser Fluide. Peripheralradpumpen können durchaus Fluide mit Viskositäten von 2000 – 3000 mPas fördern. 

Laufräder mit beidseitig bis zur Laufradnabe ausgebildeten Förderzellen und mit gezielter Zuordnung zu den Ausgleichsbohrungen erlauben die Förderung von Fluiden mit hohem Gasanteil bzw. einem gezielten Gaseintrag. Gasanteile bis zu 50% können mit diesen speziell angepassten Pumpen gefördert werden.

Donnerstag, 22. Juni 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Flujo 01 Mehrphasenpumpen

Flujo 01 - Peripheralradpumpen für erhöhten Gaseintrag verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Flujo 01 – Mehrphasenpumpen machen sich vor allem die Fähigkeit des Peripheralradprinzips zunutze, hohe Gasanteile im Fluid mitfördern zu können. Sie sind deshalb besonders für die Förderung von Fluiden mit niedrigem Siedepunkt, für Austragsprozesse in Destillationsanlagen, für das Fördern von Flüssigkeiten mit gelösten Gasanteilen oder Flüssig-/Gasgemische geeignet. In der Wasser-/Abwasserbehandlung kommen sie als sogenannte fluji01ph7n in der Begasungsflotation oder Denitrifikation zum Einsatz.

Mit speziellen Laufradgeometrien können im Einzelfall Gasanteile von bis zu 50Vol-% im Fluid mitgefördert werden.

Dienstag, 20. Juni 2017

Die sichere Dosierung von Flüssigkeiten und Gasen in explosionsgefährdeten Betriebsstätten der Zonen 1 und 2 mit Dosierpumpen der Zündschutzart Ex p.


Dosierpumpen R05- Ex

Dosierpumpen Ritmo®05 Ex verfügen über die gleichen konstruktiven Charakteristika und Vorteile einer Dosierpumpe Ritmo®05. Sie sind in Voll-PTFE für alle fluidberührten Komponenten ausgerüstet, verfügen über zwangsgesteuerte Ventile und eine hochauflösende Schrittmotortechnik.

Dosierpumpen Ritmo®05 Ex sind jedoch für den Einsatz in explosionsgefährdeten Betriebsstätten der Zone 1 und 2 ausgelegt. Es können alle flüssigen und gasförmigen Medien der Gasklasse 2B mit Ausnahme von Gasen der Klasse IIC, wie z.B. Wasserstoff, Acetylen oder Schwefelkohlenstoff dosiert werden. Die Ex-Schutz-Auslegung basiert auf der Zündschutzart EEx p gemäß EG-Richtlinie 94/9/EG. Die R05-Ex besteht aus einem Pumpengehäuse mit eigenständiger Ex-e Zulassung, einem darin befindlichen Ex p-Steuergerät mit Spül- und Druckregelfunktion, Proportionalventiltechnik mit automatischem Leckage-Ausgleich und einem vom Ex-Gehäuse entkoppeltem Pumpenkopf. 

Die Kraft und Präzision einer Hochdruckdosierung mit dualer Antriebstechnik, höchster Chemikalienbeständigkeit und universellen Einsatzmöglichkeiten


Nano-Dosierpumpe bis 5 ml/min und 750 bar • Mikrodosierpumpe bis 10 ml/min und 600 bar • Prep.-Dosierpumpe bis 40 ml/min und 300 bar


Carino-09-Hochdruckpumpen sind spezialisierte, hochgenaue Kolbendosierer für analytische, präparative und HPLC-Anwendungen, aber auch für Mikro- und Nanodosierungen für Forschung, Entwicklung und Verfahrensoptimierung, für Prüfstände und Kleinproduktion. Sie zeichnen sich durch ihre vielseitige Werkstoffausstattung, ihre duale Antriebstechnik mit zwei unabhängig arbeitenden Dosierkolben und ihre flexible Softwareausstattung aus. Verfügbar mit 3 Pumpenkopfgrößen von 1 µl/min bis 50 ml/min und 3 Druckausführungen von 150 bis 750 bar. Mit einfachster Bedienung über Touch-Panel und TFT-Farb-Screen, direkter Eingabe der Dosierparameter, Menü-Auswahl, Purge- und Setup-Funktionen. Anwendungsspezifische Werkstoffausstattung mit Edelstahl,- Hasteloyund Peek-Pumpenköpfen. Mit Titan-Pumpenkopf und Keramiksensor für inerte Anwendungen mit maximaler Biokompatililität. In 1- oder 2-Pumpenkopfausführung für pulsfreie und/oder dualen Dosierungen in Befüll-, Reaktions- oder anderen Hochdruckprozessen. Mit Arbeits-/Hilfskolben einsetzbar für alle analytischen und HPLCAnwendungen. Mit Kolbenhinterspülung zur Vermeidung von Feststoffablagerungen und Kolbenverschleiß. Integrierte Drucküberwachung mit programmierbaren Druckvorgaben Pmin und Pmax. Prozess- u. automatisierungsfähige Steuerung und Integrationsmöglichkeit durch umfangreiche Schnittstellenausstattung.

Montag, 19. Juni 2017

Erfahrung über Generationen

Zu Beginn der 60-iger Jahre entwickelte und patentierte Herr Günter Fahrion, unser Onkel, die ersten Dosierpumpen in Voll-PTFE-Version und mit zwangsgesteuerten Ventilen. In dessen Tradition und mit stetig gewachsenem Know how entwickeln und bauen wir nun schon in dritter Generation Dosierpumpen in spezialisierter PTFE-Ausführung und höchster Funktionalität.

Schon die ersten Kleinmengendosierer waren mit einer ausgeklügelten Antriebs- und Excentertechnik Präzisionsdosierpumpen, eine bemerkenswerte Innovation in der damaligen Dosiertechnik.

1996 wurden dem Markt die ersten mikroprozessorgesteuerten Dosierpumpen mit schrittmotorgesteuerter Hubeinstellung, regelbarer Hubfrequenz und digitalen Steuerungsoptionen vorgestellt. 

2006 setzte die neueste Generation unserer Präzisionsdosierpumpen, Ritmo®05 wiederum neue Maßstäbe in der Kleinmengen- und Mikrodosiertechnik. Sie zeichnet sich neben der bewährten PTFE-Technologie insbesondere durch eine variable Ausstoßgeschwindigkeit und steuerbare Ventilaktorik aus. 

2008 konnten wir erstmals am Markt Mehrkanalpumpen, Probenahmepumpen und Dosiersysteme in Master-/Slave-Konfiguration für zeitsynchrone Dosierabläufe präsentieren. Beide Entwicklungen erschließen absolut neue Anwendungsoptionen für Membrandosierpumpen und unterstreichen das hohe Entwicklungspotential der Fink Chem+Tec GmbH.

2010 Nach Abschluss eines Hochschulstudiums ist Andreas Fink als Gesellschafter in das Unternehmen eingetreten. Mit seiner Ausbildung in Mechatronik, Elektronik und Programmierung wurden die Weichen für Innovation, Produktentwicklung, aber auch für Tradition und Kontinuität für die nächsten Jahrzehnte gestellt.

Seit 2011 konnten wir neue Anwendungen in der Mikrodosiertechnik mittels eigens entwickelter Hochdruckdosierpumpen bis 600 bar erschließen. Vor allem mit einer dualen Antriebstechnik und flexibler Software war es uns möglich, Hochdruckpumpen nicht nur alternierend pulsfrei zu betreiben, sondern auch 2 Fluide mit nur einer Pumpe gleichzeitig zu dosieren oder zu mischen. 

Im September 2013 erfolgte der Umzug in eine größere Produktionsstätte nach Leinfelden-Echterdingen. Die kontinuierlich wachsende Produktion und die Anforderungen an Service und Kundennähe machten diese Veränderung zwingend erforderlich. Gleichzeitig konnten wir unsere Misch- und Verdünnungspumpen an den Markt führen. 

Mit der Übernahme der Firma K-Engineering zu Beginn 2015 erweiterten wir unser Produktprogramm durch spezielle Peripheralradpumpen in Hochdruckausführung, patentierte Peripheralreaktoren und -mischer sowie beheizbare Gaszirkulationspumpen. 

2017 schließt sich nahtlos mit Blick auf weiteres Wachstum und Kontinuität die Übergabe der Fink Chem+Tec an die nächste Generation an. Mit Beginn des Jahres wurde die alleinige Geschäftsführung an den bisherigen Junior-Chef Andreas Fink übertragen. Im gleichen Zuge wurde die Gesellschaft einer GmbH & Co.KG in die Fink Chem+Tec GmbH umfirmiert und 80% der Anteile auf Andreas Fink übertragen.