Mittwoch, 31. Januar 2018

Die Robustheit und Intelligenz einer Dosierung mit flexiblen Montageoptionen, großem Einstellbereich und intelligenter Drucksensorik.

Die Robustheit und Intelligenz einer Dosierung mit flexiblen Montageoptionen, großem Einstellbereich und intelligenter Drucksensorik.


Ritmo®032-Dosierpumpen

sind mit ihrer hohen Funktionalität, ihrem großen Einstellbereich und ihren Ansteuermöglichkeiten anspruchsvolle, leistungsstarke und anwenderfreundliche Dosierpumpen. Sie decken quasi die Vielfalt aller gängigen Anwendungen in dem breitem Spektrum möglicher Dosieraufgaben von der Wasser- und Abwasserbehandlung bis zu chemischen Anwendungen ab.

Technik:

Ritmo®032 Dosierpumpen sind, wie die R031-Pumpen, schrittmotorgetriebene Membrandosierpumpen mit robustem Pleuelantrieb, optimiertem totraumarmen Pumpenkopf, integriertem Entlüftungsventil und Doppelkugelventiltechnik. Sie repräsentieren mit 3 Baugrößen und vielseitigen Ansteuerungsmöglichkeiten die optimierte Allrounder-Version der modular aufgebauten und drehzahlgeregelten Baureihe der Ritmo®030-Dosierpumpen. Sie verfügen ebenfalls über den extrem großen Einstellbereich und begrenzen in gleicher Weise Typenvielfalt, Ersatzteilbedarf und Investitionskosten. 3 Baugrößen überdecken einen Dosierbereich von 6 ml/h bis 15 l/h.

Werkstoffausstattung:

Mit einer anwendungsoptimierten Werkstoffausstattung mit PP-, PVC-, PVDF-, PTFE- undEdelstahl-Pumpenköpfen wird einer maximalen Chemikalienbeständigkeit mit vielseitigsten Einsatzmöglichkeiten Rechnung getragen. Besonders in ihrer Voll-PTFE-Ausführung sind die Dosierpumpen für nahezu alle aggressiven Fluide, Säuren, Laugen oder Lösungsmittel, für hochreine Prozesse und metallfreie Anwendungen geeignet. In dieser Ausführung sind alle fluidberührenden Bauteile, d.h. der Pumpenkopf, die Fluidverschraubungen, die Kugelventile, die Voll-PTFE-Membran und die Pumpenkopfentlüftung aus virginalen Reinst-PTFE gefertigt und gewährleisten eine ultimative Chemikalienbeständigkeit. Dosieraufgaben in der Halbleitertechnik mit Ansprüchen an maximale Produktreinheit und Metallfreiheit bis in den ppb-Bereich können sichergestellt werden.

Dienstag, 30. Januar 2018

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 in anwendungsspezifischer Auslegung

Ziclon 04- Gaszirkulatoren in anwendungsspezifischer Auslegung verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Klein- und Prozess-Gaszirkulationspumpen. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Gaszirkulationspumpen mit beheizbarem Pumpenkopf werden dann eingesetzt, wenn hohe Prozesstemperaturen erforderlich sind, diese während des Prozesses konstant zu halten und Rückkondensationen im Pumpenkopf zu vermeiden sind. Die Beheizung des Pumpenkopfes kann elektrisch oder mit einem Wärmeträgermedium erfolgen.

Gaszirkulationspumpen mit kühlbarem Pumpenkopf bieten sich an, wenn gekühlte Verfahrensprozesse sicher zu stellen sind und eine Erwärmung während des Pumpvorganges im Pumpenkopf zu vermeiden ist. Der Pumpenkopf kann an einen Kältekreislauf angeschlossen werden.

Gaszirkulationspumpen für hohe hohe Prozessdrücke kommen immer dann zum Einsatz, wenn die Prozesse oder Reaktionsstufen verfahrensbedingt hohe Prozessdrücke erforderlich machen. Ziclon 04 – Gaszirkulatoren können bis zu Systemdrücken von 400 bar ausgelegt werden.

Gaszirkulationspumpen in verschleissarmer Ausführung sind vor allem dort gefragt, wo Prozesse mit höchster Gasreinheit umgesetzt werden oder in welchen besonders hohe Standzeiten erreicht werden müssen. Bei Förderprozessen mit höchster Gasreinheit wird der Partikeleintrag in den Gasförderstrom in erster Linie mit einer reduziert kontrollierten Motordrehzahl bei gleichzeitiger Sicherstellung der Anpresskräfte der Drehschieber an die Pumpenkopf-Laufflächen minimiert. Speziell gehärtete Laufflächen oder Keramikeinsätze und spezielle Verdrängerplatten reduzieren ebenfalls einen Partikeleintrag in den Gasstrom. Im konkreten Einzelfall bitten wir um Rücksprache, um Ihre Anwendung zielgenau lösen zu können. Ähnliche Massnahmen bieten sich auch bei sehr langen Betriebsstandzeiten an.

Gaszirkulationspumpen mit prozessangepasstem Drehzahlverhalten können mit einem externen Frequenzumrichter oder auch einem am Antriebsmotor aufgesetzten Frequenzumrichter ausgestattet werden. Über die Funktionalität des Freqenzumrichters kann das Anfahrverhalten der Pumpe (Sanftanlauf), verfahrensabhängige Förderströme, verschleissreduzierendes Drehzahlverhalten oder auch ein energieeffizientes Arbeiten angepasst werden.

Gaszirkulationspumpen mit atexkonformer Auslegung sichern eine sichere Förderung von Gasen in explosionsgefährdeten Betriebsstätten. Die Ex-Schutzklassifizierung der Betriebsstätte gibt die Auslegung von Antriebsmotor und Pumpenkopf vor und wird bei der Auslegung der Pumpe zugrunde gelegt. Es ist deshalb zu beachten, dass wir keine PTB-abgenommenen Pumpen, sondern die jeweilige Pumpe in atexkonformer Auslegung mit zugehöriger Zertifizierung anbieten.

Montag, 29. Januar 2018

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Espira 02 Kleinreaktoren

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind magnetgekuppelte Kleinreaktoren, ausgelegt für anspruchsvolle Misch-, Verdünnungs- und Homogenisierungsansprüche, auch unter harschen, aggressiven Chemikalienbedingungen im Laborbereich, in der Verfahrensentwicklung und in der Kleinproduktion. Sie verfügen im Wesentlichen den gleichen konstruktiven Aufbau einer Peripheralradpumpe mit Förderkanal und Unterbrechersteg und dem typischen Peripheralrad mit anwendungsspezifischer Auslegung der peripheren Förderzellen. Der Pumpenkopf wird jedoch zusätzlich mit einem oder mehreren Fluidanschlüssen ausgerüstet, um den Reaktions- Misch- Prozess unmittelbar im Pumpenkopf umsetzen zu können.

Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in den peripheren Förderzellen, zu einem Druckausgleich über das Laufrad und zu einer intensiven Vermischung mit dem Fluid im Förderkanal. Dieser für Peripheralradmischer charakteristische Impulsaustausch ist die Grundlage für intensive Mischvorgänge und schnelle Reaktionsabläufe innerhalb des Pumpenkopfes.

Vor allem im Labormaßstab, in der Verfahrensentwicklung und Kleinmengenproduktion bieten sich Peripheralreaktoren durch ihre Toleranz gegenüber Feststoff- oder Gasanteilen als Alternative zu mikrokanal-strukturierten Reaktoren für vielfältige Reaktionsprozesse an.

Freitag, 26. Januar 2018

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 mit kühlbaren Pumpenkopf

Flujo 01 - Peripheralradpumpen mit kühlbarem Pumpenkopf verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Kühlbare Flujo 01 – Pumpen werden dann eingesetzt, wenn verfahrensbedingt geforderte Fluidtemperaturen konstant zu halten oder Ausgasungseffekte (und Kavitationen) während des Förderprozesses zu vermeiden sind.

Die Kühlung des Pumpenkopfes kann in 2 Ausführungen vorgenommen werden.

In einfacher Ausführung wird der Pumpenkopf gekühlt, indem ein Kühlmittelkreislauf zwischen einem Kryostat oder einem Kaltwasser-Anschluss und der im Pumpenkopf eingearbeiteten Kühlkammer hergestellt wird.

In einer erweiterten Ausführung wird in den Kühlmittelkreislauf neben der Kühlung des Pumpenkopfes auch die Kühlung des Spalttopfes einbezogen. In diesem Falle wird die Pumpe in einer Doppelspalttopf-Konstruktion ausgeführt. Diese Ausführung bietet sich vor allem dann an, wenn Fluide mit niedrigem Siedepunkt zu fördern und gleichzeitg Wärmeentwicklungen durch den magnetischen Pumpenantrieb im Spalttopfbereich begrenzt oder vermieden werden sollen.

Montag, 22. Januar 2018

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Flujo 01 Prozesspumpen

Flujo 01- Prozesspumpen sind magnetgekuppelte Peripheralradpumpen, ausgelegt für anspruchsvolle und harsche Anwendungen in der Verfahrensentwicklung und für Chemie- und Prozessanwendungen. Sie bestehen im Wesentlichen aus einem Pumpenkopf mit typischem Förderkanal und Unterbrechersteg, dem Peripheralrad mit einer anwendungsspezifischen Auslegung der peripheren Förderzellen und dem Antriebsmotor mit Magnetkupplung.

Der im Pumpenkopf befindliche Förderkanal wird zwischen dem Ansaug- und dem Ausstoßkanal durch einen sogenannten Unterbrechersteg unterbrochen.

Das Peripheral-Laufrad wiederum besitzt mehrere, beidseitig radial über den Umfang angeordnete kleine Förderzellen. Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in diesen Förderzellen und zu einem Druckausgleich über das Laufrad. Dieser für Peripheralradpumpen charakteristische Impulsaustausch führt zu einem starken Energieeintrag und einer nahezu linearen Kennlinie. Peripheralradpumpen bieten sich aufgrund dieser Kennliniencharakteristik für Anwendungen mit geringen Förderströmen und vergleichsweise hohen Förderdrücken an und begründen damit ihre entscheidenden Vorteile gegenüber Zentrifugalpumpen.

Vor allem in der Verfahrensentwicklung und in Prozessanwendungen können Peripheralradpumpen durch ihre Toleranz gegenüber Feststoff- oder Gasanteilen auch Alternativen zu Zahnradpumpen oder anderer Förderpumpen bieten.

Freitag, 19. Januar 2018

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Espira 02 Prozesspumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung gefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Verfahrensentwicklung und in Prozessanwendungen für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmitteln oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, DIN-Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.