Dienstag, 24. Oktober 2017

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 Kleinzirkulatoren

Ziclon 04- Kleinzirkulatoren sind spezielle, ölfreie Drehschieberpumpen. Sie bestehen im Wesentlichen aus dem Antriebsmotor, dem Gehäusering und dem Rotor mit Verdrängerplatten. Sie sind in Abhängigkeit ihrer Anwendung für einfache Gasförderungen, in spezieller Anpassung in der Forschung und Verfahrensentwicklung und für anspruchsvollste Chemie- und Prozessanwendungen ausgelegt.

Im Rotor (Läufer) sind mehrere Rotorschlitze eingearbeitet, in denen Verdrängerplatten (Schieber) eingesetzt sind. Diese sind fliegend gelagert und legen sich durch die Fliehkraft an die Gehäusewand an. Je nach Anzahl der im Rotor eingesetzten Schieber transportieren die entstehenden Förderkammern das Gas von der Saug- zur Druckseite der Gasförderpumpe.

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen werden grundsätzlich in einer magnetgekuppelten Auslegung hergestellt. Sie sind deshalb hermetisch dicht und bestehen auch die Helium-Dichtheitsprüfung.

Sie können sowohl als Förderpumpe als auch als Verdichter- oder Vakuumpumpe genutzt werden. Z04-Kleinzirkulatoren sind in der Forschung und Verfahrensentwicklung, für die Förderung aggressiver Gase und Gasgemische, heißer oder radioaktiv kontaminierter Gase, in Hochdruckprozessen, aber auch für Reinstgase und als Bypasspumpe für Gasanalyse-Systeme einsetzbar.

Montag, 23. Oktober 2017

Die Robustheit und max. Prozeßsicherheit einer Dosierung mit integrierter Drucksensorik

Funktion Maximaldruck:

Der Anwender kann einen max. Druck am Display der Pumpe vorgeben. Übersteigt der Druck im System den eingestellten Maximalwert (z.B. durch ein geschlossenes Ventil in der Druckleitung oder eine verstopfte Dosierleitung oder einen unzulässigen Druckanstieg im Reaktionsbehälter), so stoppt die Drucküberwachungsfunktion sofort den Dosierablauf. Die Display-Anzeige wechselt auf die rote Alarmanzeige. Fällt der Gegendruck wieder unter den Maximalwert, wird der Dosierprozess wieder fortgesetzt.

Der einstellbare Maximaldruck liegt 1 bar über dem maximalen Betriebsdruck und ist vom jeweiligen Pumpentyp abhängig:
  • R033-7.5-16 3 - 17 bar
  • R033-12-10 3 - 11 bar
  • R033 17-7 3 - 8 bar
  • R033-30-4 3 - 5 bar

Funktion Minimaldruck:

Der werksseitig eingestellte Minimaldruck beträgt für alle Pumpen < 2 bar. Fällt der Druck unter diesen Grenzwert (z.B. durch eine geplatzte Druckleitung), so stoppt die Drucküberwachungsfunktion sofort den Dosierablauf. Größere Verluste an Chemikalien, Beschädigung von Anlagenkomponenten durch die austretende Chemikalie oder gar menschlicher Gefährdung können vermieden werden. Die Fehlermeldung kann sowohl als Warnung (Pumpe arbeitet noch weiter) oder als Alarm (Pumpe wird sofort gestoppt) eingestellt werden.

Donnerstag, 19. Oktober 2017

Die pH-gesteuerte Dosierung mit integriertem Regelmodul, zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausführung

Dosierpumpe Ritmo®05 pH

pH-gesteuerte Dosierpumpen Ritmo®05 pH verfügen über die gleichen konstruktiven Charakteristika und Vorteile einer Dosierpumpe Ritmo®05. Sie sind in Voll-PTFE für alle fluidberührten Komponenten ausgerüstet, verfügen über zwangsgesteuerte Ventile und eine hochauflösende Schrittmotortechnik.

Dosierpumpen Ritmo®05 pH sind gegenüber den Standard-Dosierpumpen jedoch mit einem 2-Kanal-Regler, Schnittstellen für den Anschluss einer pH-Sonde und einer Master-/Slave-Vernetzung zweier pH-Dosierpumpen sowie einer speziell auf die pH-abhängige Betriebsweise angepassten Software ausgestattet

Die R05-pH stellt damit eine abgestimmte Systemlösung aus pH-Messung, Dosierung von basischen und/oder sauren Fluiden und pH-Regelung dar.

Die Voll-PTFE-Ausstattung erlaubt das Dosieren aller denkbarer aggressiver, saurer oder basischer Fluide, die für den jeweiligen pH-anhängigen Prozess zum Einsatz kommen.

Die zwangsgesteuerte Ventiltechnik sorgt für einen robusten, absolut sicheren Ansaug- und Dosierablauf, auch unter ungünstigen Installations- und Prozessbedingungen.

Die hochauflösende Schrittmotortechnik ermöglicht sehr genaue und gleichmässige Dosierabläufe in den pH-abhängigen Prozess. Überschwingungen des Soll-pH-Wertes durch zu große Einzelhubdosierungen sind nahezu ausgeschlossen.

Ein 2-kanaliger Regler ist in der Pumpensteuerung bereits integriert. Die Installation eines separaten Regelgerätes ist nicht erforderlich. Das spart Platz, Installationsaufwand und Geld.

Die pH-Sonde wird direkt an der Dosierpumpe angeschlossen.

Eine weitere, spezielle Master-/Slave-Schnittstelle erlaubt die Vernetzung von 2 Dosierpumpen.

Grundlegende, für R05-Dosierpumpen typische Funktionalitäten wie Max-, Return- oder Clean-Funktion bleiben auch bei einer R05-pH erhalten. Aggressive Restfluide können in die Vorlage zurück gefördert werden.

Dienstag, 17. Oktober 2017

Erfahrung über Generationen

Zu Beginn der 60-iger Jahre entwickelte und patentierte Herr Günter Fahrion, unser Onkel, die ersten Dosierpumpen in Voll-PTFE-Version und mit zwangsgesteuerten Ventilen. In dessen Tradition und mit stetig gewachsenem Know how entwickeln und bauen wir nun schon in dritter Generation Dosierpumpen in spezialisierter PTFE-Ausführung und höchster Funktionalität.

Schon die ersten Kleinmengendosierer waren mit einer ausgeklügelten Antriebs- und Excentertechnik Präzisionsdosierpumpen, eine bemerkenswerte Innovation in der damaligen Dosiertechnik.

1996 wurden dem Markt die ersten mikroprozessorgesteuerten Dosierpumpen mit schrittmotorgesteuerter Hubeinstellung, regelbarer Hubfrequenz und digitalen Steuerungsoptionen vorgestellt. 

2006 setzte die neueste Generation unserer Präzisionsdosierpumpen, Ritmo®05 wiederum neue Maßstäbe in der Kleinmengen- und Mikrodosiertechnik. Sie zeichnet sich neben der bewährten PTFE-Technologie insbesondere durch eine variable Ausstoßgeschwindigkeit und steuerbare Ventilaktorik aus. 

2008 konnten wir erstmals am Markt Mehrkanalpumpen, Probenahmepumpen und Dosiersysteme in Master-/Slave-Konfiguration für zeitsynchrone Dosierabläufe präsentieren. Beide Entwicklungen erschließen absolut neue Anwendungsoptionen für Membrandosierpumpen und unterstreichen das hohe Entwicklungspotential der Fink Chem+Tec GmbH.

2010 Nach Abschluss eines Hochschulstudiums ist Andreas Fink als Gesellschafter in das Unternehmen eingetreten. Mit seiner Ausbildung in Mechatronik, Elektronik und Programmierung wurden die Weichen für Innovation, Produktentwicklung, aber auch für Tradition und Kontinuität für die nächsten Jahrzehnte gestellt.

Seit 2011 konnten wir neue Anwendungen in der Mikrodosiertechnik mittels eigens entwickelter Hochdruckdosierpumpen bis 600 bar erschließen. Vor allem mit einer dualen Antriebstechnik und flexibler Software war es uns möglich, Hochdruckpumpen nicht nur alternierend pulsfrei zu betreiben, sondern auch 2 Fluide mit nur einer Pumpe gleichzeitig zu dosieren oder zu mischen. 

Im September 2013 erfolgte der Umzug in eine größere Produktionsstätte nach Leinfelden-Echterdingen. Die kontinuierlich wachsende Produktion und die Anforderungen an Service und Kundennähe machten diese Veränderung zwingend erforderlich. Gleichzeitig konnten wir unsere Misch- und Verdünnungspumpen an den Markt führen. 

Mit der Übernahme der Firma K-Engineering zu Beginn 2015 erweiterten wir unser Produktprogramm durch spezielle Peripheralradpumpen in Hochdruckausführung, patentierte Peripheralreaktoren und -mischer sowie beheizbare Gaszirkulationspumpen. 

2017 schließt sich nahtlos mit Blick auf weiteres Wachstum und Kontinuität die Übergabe der Fink Chem+Tec an die nächste Generation an. Mit Beginn des Jahres wurde die alleinige Geschäftsführung an den bisherigen Junior-Chef Andreas Fink übertragen. Im gleichen Zuge wurde die Gesellschaft einer GmbH & Co.KG in die Fink Chem+Tec GmbH umfirmiert und 80% der Anteile auf Andreas Fink übertragen.

Montag, 16. Oktober 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 in Hochdruckausführung

Flujo 01 - Peripheralradpumpen in Hochdruckausführung verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Hochdruck - Flujo 01 - Pumpen sind für Prozesse mit hohen Systemdrücken gefragt. Sie werden stets für den konkreten Anwendungsfall berechnet und ausgelegt. Vor allem der Spalttopf ist so zu dimensionieren, dass er einerseits die Übertragung der magnetischen Antriebskräfte nicht gravierend einschränkt, die Wärmeentwicklung durch Wirbelstromverluste beherrschbar bleibt und gleichzeitig den Anforderung der Druckbehälterverordnung Rechnung getragen wird.

Im Einzelfall wurden Peripheralradpumpen für Systemdrücke bis 750 bar ausgelegt.

Der angestrebte Druckaufbau zwischen Pumpeneingang und –ausgang, d.h. das sogenannte dp, ist unabhängig von der Systemdruckauslegung der Pumpe. Die Druckdifferenz zwischen Pumpeneingang und –ausgang orientiert sich ausschliesslich an der zugeordneten Kennlinie der Pumpe.

Freitag, 13. Oktober 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Donnerstag, 12. Oktober 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinförder-Mischpumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralmischer sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidunggefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira E02 – Peripheralmischer sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für das Fördern, das Mischen oder das Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel, das Mischen und Emulgieren schwer miteinander mischbarer Fluide oder das Einmischen von Gasen in Flüssigkeiten, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern Peripheralmischer ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Mittwoch, 4. Oktober 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Laufrad

Das Laufrad einer Peripheralradpumpe besitzt beidseitig radial über den Umfang angeordnete, anwendungskonform ausgebildete Förderzellen. Im Zusammenspiel von Laufrad, Förderkanal und Unterbrechersteg realisiert die Peripheralradpumpe eine nahezu lineare Kennlinie. Das Laufrad spielt bei der Auslegung der Pumpe eine entscheidende Größe. Durchmesser, Breite, Anzahl und Anordnung der Förderzellen erlauben die zielgenaue Auslegung auf den gewünschten Betriebspunkt und somit einen energieeffizienten Einsatz der Pumpe. 

Ein Standard-Laufrad verfügt in aller Regel auf jeder Seite über ca. 20 - 30 symmetrisch oder asymmetrisch angeordnete Förderzellen. 

Ein Laufrad mit größerer Anzahl gleichmäßig über den Umfang angeordneter Förderzellenerreicht einen höheren Druckaufbau und eine intensive Durchmischung des Fluides während des Durchganges durch den Pumpenkopf. 

Laufräder mit breiteren und zu dem asymmetrisch angeordneten Förderzellen eignen sich für das Fördern viskoser Fluide. Peripheralradpumpen können durchaus Fluide mit Viskositäten von 2000 – 3000 mPas fördern. 

Laufräder mit beidseitig bis zur Laufradnabe ausgebildeten Förderzellen und mit gezielter Zuordnung zu den Ausgleichsbohrungen erlauben die Förderung von Fluiden mit hohem Gasanteil bzw. einem gezielten Gaseintrag. Gasanteile bis zu 50% können mit diesen speziell angepassten Pumpen gefördert werden.