Donnerstag, 20. Juli 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Mittwoch, 19. Juli 2017

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 Kleinzirkulatoren

Ziclon 04- Kleinzirkulatoren sind spezielle, ölfreie Drehschieberpumpen. Sie bestehen im Wesentlichen aus dem Antriebsmotor, dem Gehäusering und dem Rotor mit Verdrängerplatten. Sie sind in Abhängigkeit ihrer Anwendung für einfache Gasförderungen, in spezieller Anpassung in der Forschung und Verfahrensentwicklung und für anspruchsvollste Chemie- und Prozessanwendungen ausgelegt.

Im Rotor (Läufer) sind mehrere Rotorschlitze eingearbeitet, in denen Verdrängerplatten (Schieber) eingesetzt sind. Diese sind fliegend gelagert und legen sich durch die Fliehkraft an die Gehäusewand an. Je nach Anzahl der im Rotor eingesetzten Schieber transportieren die entstehenden Förderkammern das Gas von der Saug- zur Druckseite der Gasförderpumpe.

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen werden grundsätzlich in einer magnetgekuppelten Auslegung hergestellt. Sie sind deshalb hermetisch dicht und bestehen auch die Helium-Dichtheitsprüfung.

Sie können sowohl als Förderpumpe als auch als Verdichter- oder Vakuumpumpe genutzt werden. Z04-Kleinzirkulatoren sind in der Forschung und Verfahrensentwicklung, für die Förderung aggressiver Gase und Gasgemische, heißer oder radioaktiv kontaminierter Gase, in Hochdruckprozessen, aber auch für Reinstgase und als Bypasspumpe für Gasanalyse-Systeme einsetzbar.

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinreaktoren

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralreaktoren sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidungausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind für einfache Misch- und Reaktionsabläufe während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in vielfältigen Prozessen für die Förderung, das Mischen, Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder für schnelle Reaktionsabläufe zwischen Fluid / Fluid oder auch Fluid / Gas, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Dienstag, 11. Juli 2017

Die Robustheit und Intelligenz einer Dosierung mit flexiblen Montageoptionen, großem Einstellbereich und intelligenter Drucksensorik.

Ritmo®031-Dosierpumpen

sind trotz anspruchsvoller Schrittmotortechnik durch ihren extrem großen Einstellbereich und der Reduzierung der Typenvielfalt universelle, preiswerte und ökonomische Kleinmengen-Dosierpumpen, quasi die kostensparende Einstiegsvariante für eine Unzahl von Anwendungen von der Wasser- und Abwasserbehandlung bis hin zu einfachen, chemischen Applikationen.

Technik:

Ritmo®031 Dosierpumpen sind schrittmotorgetriebene Membrandosierpumpen mit robustem Pleuelantrieb, optimiertem totraumarmen Pumpenkopf, integriertem Entlüftungsventil und Doppelkugelventiltechnik. Sie repräsentieren mit nur 2 Baugrößen die Basisversion der modular aufgebauten und mit einer drehzahlgeregelten Schrittmotortechnik ausgestatteten Baureihe der Ritmo®030-Dosierpumpen. Mit ihrem extrem großen Einstellbereich von 1:1000 reduzieren sie deutlich die Typenvielfalt, den Ersatzteilbedarf und die Investitionskosten. 2 Baugrößen genügen, um einen Dosierbereich von 6 ml/h bis 15 l/h zu überdecken.

Werkstoffausstattung:

Mit einer anwendungsoptimierten Werkstoffausstattung mit PP-, PVC-, PVDF-, PTFE- und Edelstahl-Pumpenköpfen wird einer maximalen Chemikalienbeständigkeit mit vielseitigsten Einsatzmöglichkeiten Rechnung getragen. Besonders in ihrer Voll-PTFE-Ausführung sind die Dosierpumpen für nahezu alle aggressiven Fluide, Säuren, Laugen oder Lösungsmittel, für hochreine Prozesse und metallfreie Anwendungen geeignet. In dieser Ausführung sind alle fluidberührenden Bauteile, d.h. der Pumpenkopf, die Fluidverschraubungen, die Kugelventile, die Voll-PTFE-Membran und die Pumpenkopfentlüftung aus virginalen Reinst-PTFE gefertigt und gewährleisten eine ultimative Chemikalienbeständigkeit. Dosieraufgaben in der Halbleitertechnik mit Ansprüchen an maximale Produktreinheit und Metallfreiheit bis in den ppb-Bereich können sichergestellt werden.

Montag, 10. Juli 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen


Flujo 01 mit kühlbaren Pumpenkopf


Flujo 01 - Peripheralradpumpen mit kühlbarem Pumpenkopf verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Kühlbare Flujo 01 – Pumpen werden dann eingesetzt, wenn verfahrensbedingt geforderte Fluidtemperaturen konstant zu halten oder Ausgasungseffekte (und Kavitationen) während des Förderprozesses zu vermeiden sind.

Die Kühlung des Pumpenkopfes kann in 2 Ausführungen vorgenommen werden.

In einfacher Ausführung wird der Pumpenkopf gekühlt, indem ein Kühlmittelkreislauf zwischen einem Kryostat oder einem Kaltwasser-Anschluss und der im Pumpenkopf eingearbeiteten Kühlkammer hergestellt wird.

In einer erweiterten Ausführung wird in den Kühlmittelkreislauf neben der Kühlung des Pumpenkopfes auch die Kühlung des Spalttopfes einbezogen. In diesem Falle wird die Pumpe in einer Doppelspalttopf-Konstruktion ausgeführt. Diese Ausführung bietet sich vor allem dann an, wenn Fluide mit niedrigem Siedepunkt zu fördern und gleichzeitg Wärmeentwicklungen durch den magnetischen Pumpenantrieb im Spalttopfbereich begrenzt oder vermieden werden sollen.

Montag, 3. Juli 2017

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 Kleinzirkulatoren

Ziclon 04- Kleinzirkulatoren sind spezielle, ölfreie Drehschieberpumpen. Sie bestehen im Wesentlichen aus dem Antriebsmotor, dem Gehäusering und dem Rotor mit Verdrängerplatten. Sie sind in Abhängigkeit ihrer Anwendung für einfache Gasförderungen, in spezieller Anpassung in der Forschung und Verfahrensentwicklung und für anspruchsvollste Chemie- und Prozessanwendungen ausgelegt.

Im Rotor (Läufer) sind mehrere Rotorschlitze eingearbeitet, in denen Verdrängerplatten (Schieber) eingesetzt sind. Diese sind fliegend gelagert und legen sich durch die Fliehkraft an die Gehäusewand an. Je nach Anzahl der im Rotor eingesetzten Schieber transportieren die entstehenden Förderkammern das Gas von der Saug- zur Druckseite der Gasförderpumpe.

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen werden grundsätzlich in einer magnetgekuppelten Auslegung hergestellt. Sie sind deshalb hermetisch dicht und bestehen auch die Helium-Dichtheitsprüfung.

Sie können sowohl als Förderpumpe als auch als Verdichter- oder Vakuumpumpe genutzt werden. Z04-Kleinzirkulatoren sind in der Forschung und Verfahrensentwicklung, für die Förderung aggressiver Gase und Gasgemische, heißer oder radioaktiv kontaminierter Gase, in Hochdruckprozessen, aber auch für Reinstgase und als Bypasspumpe für Gasanalyse-Systeme einsetzbar.

Freitag, 30. Juni 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinförder-Mischpumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralmischer sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidunggefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira E02 – Peripheralmischer sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für das Fördern, das Mischen oder das Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel, das Mischen und Emulgieren schwer miteinander mischbarer Fluide oder das Einmischen von Gasen in Flüssigkeiten, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern Peripheralmischer ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.