Freitag, 4. August 2017

Die pH-gesteuerte Dosierung mit integriertem Regelmodul, zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausführung

pH-Regelung

Die Dosierpumpe R05-pH kann sowohl als Standarddosierpumpe (ohne pH-Regelung) oder auch als pH-geregelte Dosierpumpe eingesetzt werden.

Ein zusätzlicher Regler ist nicht mehr erforderlich.

Der in der Dosierpumpe integrierte Regler ist als vollwertiger PID-Regler ausgelegt.

Für den pH-geregelten Einsatz wird die Dosierpumpe in den „externen“ Modus gesetzt und die pH-Sonde direkt an der Vorderseite der Pumpe angeschlossen. Die Pumpe erkennt die pH-Sonde, sobald sie an der dafür vorgesehenen Schnittstelle angeschlossen ist.

Den Soll-pH-Wert gibt der Anwender manuell am Display der Pumpe vor.

Der von der pH-Sonde gemessene Ist-pH-Wert wird an die Dosierpumpe übertragen, durch die pH-Regeleinheit mit dem Sollwert abgeglichen und die Nachdosierung des geeigneten sauren oder basischen Fluids ausgelöst.

Der Dosiervorgang erfolgt mit den für R05-Dosierpumpen typischem langsamen und pulsationsarmen Ausstoßvorgang. Auch bei kleinsten Dosiermengen ist das Dosier- und Regelverhalten der R05-pH reproduzierbar und gleichmäßig.

Zudem können die Regelparameter für den P-, I- und D-Anteil vom Anwender in Abhängigkeit seines Prozesses eingestellt oder auch nachjustiert werden.

pH-abhängige Reaktionen sind deshalb extrem genau, pulsationsarm und ohne gravierende Regelamplituden dem Soll-pH-Wert nachregelbar, um einen möglichst konstanten pH-Wert zu sichern und optimale Reaktionsergebnisse zu erzielen.

Montag, 31. Juli 2017

Die pH-gesteuerte Dosierung mit integriertem Regelmodul, zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausführung

Dosierpumpe Ritmo®05 pH

pH-gesteuerte Dosierpumpen Ritmo®05 pH verfügen über die gleichen konstruktiven Charakteristika und Vorteile einer Dosierpumpe Ritmo®05. Sie sind in Voll-PTFE für alle fluidberührten Komponenten ausgerüstet, verfügen über zwangsgesteuerte Ventile und eine hochauflösende Schrittmotortechnik.

Dosierpumpen Ritmo®05 pH sind gegenüber den Standard-Dosierpumpen jedoch mit einem 2-Kanal-Regler, Schnittstellen für den Anschluss einer pH-Sonde und einer Master-/Slave-Vernetzung zweier pH-Dosierpumpen sowie einer speziell auf die pH-abhängige Betriebsweise angepassten Software ausgestattet

Die R05-pH stellt damit eine abgestimmte Systemlösung aus pH-Messung, Dosierung von basischen und/oder sauren Fluiden und pH-Regelung dar.

Die Voll-PTFE-Ausstattung erlaubt das Dosieren aller denkbarer aggressiver, saurer oder basischer Fluide, die für den jeweiligen pH-anhängigen Prozess zum Einsatz kommen.

Die zwangsgesteuerte Ventiltechnik sorgt für einen robusten, absolut sicheren Ansaug- und Dosierablauf, auch unter ungünstigen Installations- und Prozessbedingungen.

Die hochauflösende Schrittmotortechnik ermöglicht sehr genaue und gleichmässige Dosierabläufe in den pH-abhängigen Prozess. Überschwingungen des Soll-pH-Wertes durch zu große Einzelhubdosierungen sind nahezu ausgeschlossen.

Ein 2-kanaliger Regler ist in der Pumpensteuerung bereits integriert. Die Installation eines separaten Regelgerätes ist nicht erforderlich. Das spart Platz, Installationsaufwand und Geld.

Die pH-Sonde wird direkt an der Dosierpumpe angeschlossen.

Eine weitere, spezielle Master-/Slave-Schnittstelle erlaubt die Vernetzung von 2 Dosierpumpen.

Grundlegende, für R05-Dosierpumpen typische Funktionalitäten wie Max-, Return- oder Clean-Funktion bleiben auch bei einer R05-pH erhalten. Aggressive Restfluide können in die Vorlage zurück gefördert werden.

Freitag, 28. Juli 2017

Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Prozesspumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung gefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Verfahrensentwicklung und in Prozessanwendungen für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmitteln oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, DIN-Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Dienstag, 25. Juli 2017

Die pH-gesteuerte Dosierung mit integriertem Regelmodul, zwangsgesteuerten Ventilen und in Voll-PTFE-Ausführung

pH-Regelung

Die Dosierpumpe R05-pH kann sowohl als Standarddosierpumpe (ohne pH-Regelung) oder auch als pH-geregelte Dosierpumpe eingesetzt werden.

Ein zusätzlicher Regler ist nicht mehr erforderlich.

Der in der Dosierpumpe integrierte Regler ist als vollwertiger PID-Regler ausgelegt.

Für den pH-geregelten Einsatz wird die Dosierpumpe in den „externen“ Modus gesetzt und die pH-Sonde direkt an der Vorderseite der Pumpe angeschlossen. Die Pumpe erkennt die pH-Sonde, sobald sie an der dafür vorgesehenen Schnittstelle angeschlossen ist.

Den Soll-pH-Wert gibt der Anwender manuell am Display der Pumpe vor.

Der von der pH-Sonde gemessene Ist-pH-Wert wird an die Dosierpumpe übertragen, durch die pH-Regeleinheit mit dem Sollwert abgeglichen und die Nachdosierung des geeigneten sauren oder basischen Fluids ausgelöst.

Der Dosiervorgang erfolgt mit den für R05-Dosierpumpen typischem langsamen und pulsationsarmen Ausstoßvorgang. Auch bei kleinsten Dosiermengen ist das Dosier- und Regelverhalten der R05-pH reproduzierbar und gleichmäßig.

Zudem können die Regelparameter für den P-, I- und D-Anteil vom Anwender in Abhängigkeit seines Prozesses eingestellt oder auch nachjustiert werden.

pH-abhängige Reaktionen sind deshalb extrem genau, pulsationsarm und ohne gravierende Regelamplituden dem Soll-pH-Wert nachregelbar, um einen möglichst konstanten pH-Wert zu sichern und optimale Reaktionsergebnisse zu erzielen.

Donnerstag, 20. Juli 2017

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Kleinförderpumpen

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung ausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz

Einsatzbedingungen:

Flujo 01 – Peripheralradpumpen sind für einfache Förderaufgaben ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°CSystemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Forschung, Verfahrensentwicklung und in der Kleinmengenproduktion für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Mittwoch, 19. Juli 2017

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

Ziclon 04 Kleinzirkulatoren

Ziclon 04- Kleinzirkulatoren sind spezielle, ölfreie Drehschieberpumpen. Sie bestehen im Wesentlichen aus dem Antriebsmotor, dem Gehäusering und dem Rotor mit Verdrängerplatten. Sie sind in Abhängigkeit ihrer Anwendung für einfache Gasförderungen, in spezieller Anpassung in der Forschung und Verfahrensentwicklung und für anspruchsvollste Chemie- und Prozessanwendungen ausgelegt.

Im Rotor (Läufer) sind mehrere Rotorschlitze eingearbeitet, in denen Verdrängerplatten (Schieber) eingesetzt sind. Diese sind fliegend gelagert und legen sich durch die Fliehkraft an die Gehäusewand an. Je nach Anzahl der im Rotor eingesetzten Schieber transportieren die entstehenden Förderkammern das Gas von der Saug- zur Druckseite der Gasförderpumpe.

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen werden grundsätzlich in einer magnetgekuppelten Auslegung hergestellt. Sie sind deshalb hermetisch dicht und bestehen auch die Helium-Dichtheitsprüfung.

Sie können sowohl als Förderpumpe als auch als Verdichter- oder Vakuumpumpe genutzt werden. Z04-Kleinzirkulatoren sind in der Forschung und Verfahrensentwicklung, für die Förderung aggressiver Gase und Gasgemische, heißer oder radioaktiv kontaminierter Gase, in Hochdruckprozessen, aber auch für Reinstgase und als Bypasspumpe für Gasanalyse-Systeme einsetzbar.

Reaktions- und Mischtechnik als Alternative zu Rührkesselreaktoren, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinreaktoren

Werkstoffausstattung:

Flujo 01 – Peripheralreaktoren sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidungausgelegt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralreaktoren sind für einfache Misch- und Reaktionsabläufe während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in vielfältigen Prozessen für die Förderung, das Mischen, Verdünnen von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmittel oder für schnelle Reaktionsabläufe zwischen Fluid / Fluid oder auch Fluid / Gas, auch unter Hochdruckbedingungen und für hohe Prozesstemperaturen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie ein emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.