Das Fördern, Mischen, Verdünnen, Dispergieren und Homogenisieren während des Förderprozesses mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Kleinförder-Mischpumpen

Espira 02 – Peripheralmischpumpen sind magnetgekuppelte Kleinförderpumpen, ausgelegt für anspruchsvolle Misch-, Verdünnungs- und Homogenisierungsansprüche, auch unter harschen, aggressiven Chemikalienbedingungen im Laborbereich, in der Verfahrensentwicklung und in der Kleinproduktion. Sie verfügen im Wesentlichen den gleichen konstruktiven Aufbau einer Peripheralradpumpe mit Förderkanal und Unterbrechersteg und dem typischen Peripheralrad mit anwendungsspezifischer Auslegung der peripheren Förderzellen. Der Pumpenkopf wird jedoch zusätzlich mit einem oder mehreren Fluidanschlüssen ausgerüstet, um den Misch-, Verdünnungs- oder Homogenisierungsprozess unmittelbar im Pumpenkopf umsetzen zu können.

Während der Rotation des Laufrades kommt es zu einer raschen Druckerhöhung in den peripheren Förderzellen, zu einem Druckausgleich über das Laufrad und zu einer intensiven Vermischung mit dem Fluid im Förderkanal. Dieser für Peripheralradmischer charakteristische Impulsaustausch ist die Grundlage für einen intensiven Mischprozess innerhalb des Pumpenkopfes und somit auch während des Fördervorganges.

Espira 02 - Mischpumpen stellen deshalb für viele Prozesse eine effektive und wirtschaftliche Alternative zu Rührbehältern, Rotor-Stator-Mischern, Injektoren und statischen Mischern dar. Im Labormaßstab, in der Verfahrensentwicklung und Kleinmengenproduktion können Peripheralmischpumpen durch ihre Toleranz gegenüber Feststoff- oder Gasanteilen durchaus auch Alternativen zu mikrokanal-strukturierten Mischaggregaten bieten.

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Espira 02 Prozesspumpen

Werkstoffausstattung:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind vornehmlich für harsche Einsatzbedingungen, aggressive Fluideigenschaften und hohe Gasanteile im Fluid ausgelegt. Das Pumpengehäuse wird deshalb kunden- und anwendungsorientiert in verschiedenen Edelstählen, Hastelloy, Keramik und WolframCarbid (Hartmetall) oder in PTFE-Auskleidung gefertigt. Für die statische Abdichtung kommen O-Ringe aus FKM, FFKM (Kalrez) oder hochtemperaturbeständige Dichtungen zum Einsatz.

Einsatzbedingungen:

Espira 02 – Peripheralradpumpen sind für einfache Mischaufgaben während des Förderprozesses ebenso wie für anspruchsvollste Chemieanwendungen einsetzbar. Sie können für Prozesstemperaturen bis 450°C, Systemdrücke bis 700 bar und atex-konforme Ex-Auslegungen konfiguriert werden.

Sie sind in der Verfahrensentwicklung und in Prozessanwendungen für die Förderung von aggressiven Säuren, Laugen, Lösungsmitteln oder Flüssigkeiten mit hohen Gasanteilen, in Hochdruckprozessen und fluidseitig heiße Verfahrensbedingungen einsetzbar.

Aufgrund ihrer hermetisch dichten, magnetgekuppelten Bauweise sichern sie eine emissionsfreie Handhabung von aggressiven Fluiden und umweltbelastenden Gefahrstoffen und erfüllen die Anforderungen der TA-Luft.

Die Fluidanschlüsse

Für die Fluidanschlüsse kommen, je nach Anwendung und Integration der Pumpen in den Prozess, Edelstahl- oder PTFE- /PFA-Schneidringverschraubungen, DIN-Flanschanschlüsse oder Hochdruckverschraubungen zum Einsatz.

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 Inline-Peripheralradpumpen

Flujo 01 - Peripheralradpumpen Inline-Peripheralradpumpen verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Inline-Peripheralradpumpen sind vor allem in der Ausbildung des Förderkanals mit Unterbrechersteg und des Laufrades so konzipiert, dass sie „Inline“ in den Förderprozess eingebunden werden können. Sie können sowohl vertikal als auch horizontal eingebaut werden.

Die Eleganz und Leichtigkeit einer Dosierung mit zwangsgesteuerten Ventilen, variablen Druckhub und in Voll-PTFE-Ausstattung für Flüssigkeiten und Gase

Die Kommunikation

Jede Dosierpumpen Ritmo®05 verfügt über eine Analogschnittstelle 4-20 mA, um die Dosierrate extern vorgeben und die Pumpe starten/stoppen zu können. Aufgrund des extrem hohen Einstellbereiches der Dosierrate von 1:1000 kann die Zuordnung der 4-20mA-Signale in verschiedenen Auflösungen gewählt werden.
Ritmo®05-Dosierpumpen können auch mit einer RS232-Digitalschnittstelle ausgestattet werden. Diese erlaubt neben der Vorgabe der Dosierrate auch die Ansteuerung weiterer Funktionen wie „return“, „clean“, „max“ oder „cal“.
Mittels einer speziellen, eigens für die Ritmo®05-Dosierpumpen entwickelten Master-/Slave-Schnittstelle kommunizieren die Dosierpumpen untereinander. Sie tauschen wichtige Daten aus, ohne eine separate Steuerung zu benötigen. Synchrone oder auch asynchrone Koordinierung mehrerer Dosierpumpen untereinander erlauben pulsfreie oder auch mengenproportionale, zeitsynchrone Dosierungen, mit Membrandosierpumpen bisher unerreicht und deshalb ein Novum !

Die Fluidverbindungen

Die Fluidanschlüsse RGL sind ebenfalls in PTFE ausgeführt. Mittels Klemm- und Dichtring werden die PTFE-Schläuche angeschlossen.

Für beheizbare Dosierpumpen oder für Vakuumdosierungen kommen auch sogenannte REA-Flex-Anschlüsse in Betracht. Das PTFE-Inlet sichert die Chemikalienbeständigkeit. Der flexible Silikonmantel verbessert die Dichtheit der Verschraubung, vor allem bei wechselnden Temperaturbeanspruchungen und bei hohem Vakuum.

Gehäuseausführungen

Ritmo®05-Dosierpumpen können in 4 Gehäuseausführungen bestellt werden. In der Standardausführung ist die Dosierpumpe mit einem Edelstahlgehäuse in Leinenstruktur erhältlich.

Bei Anwendungen mit stark korrosiver Umgebung ist ein Edelstahlgehäuse mit PFA-Beschichtung einsetzbar (Farbgebung auf Kundenwunsch möglich).

Alternativ kann die Dosierpumpe mit einem Polycarbonatgehäuse in matt durchscheinender Oberflächenstruktur ausgestattet werden, auf Wunsch mit intelligenter Illuminierung. Das Gehäuse erscheint in Abhängigkeit der Pumpenfunktion in einer matt leuchtenden Oberfläche, z.B. matt blau für den Standardmodus oder matt rot im beheiztem Modus (weitere Farbgestaltung nach Wunsch). In Miniplant- oder Kleinproduktionsanlagen kann der jeweilige Betriebszustand durch die Illumination schnell überschaut und ggf. Maßnahmen eingeleitet werden. Für raue Industrieanwendungen steht eine IP-65-Ausführung in 6mm-starker Polystyrol-Ausführung zur Verfügung.

Das Fördern aggressiver Fluide im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität und Gasbeladung mit hermetisch dichten Peripheralradpumpen

Flujo 01 mit beheizbarem Pumpenkopf

Flujo 01 - Peripheralradpumpen mit beheizbarem Pumpenkopf verfügen über einen vergleichbaren Aufbau und die gleichen konstruktiven Charakteristika wie Standard-Peripheralradpumpen. Sie sind ebenfalls magnetgekuppelt und hermetisch dicht. Werkstoffauswahl, Pumpenkopfauslegung und Drehzahlregelung werden jedoch in Sonderanfertigung an die speziellen Einsatzbedingungen angepasst.

Beheizbare Flujo 01 – Pumpen werden dann eingesetzt, wenn hohe Prozesstemperaturen erforderlich sind, diese während des Prozesses konstant zu halten und Auskristallisierungen während des Förderprozesses zu vermeiden sind.

Die Beheizung des Pumpenkopfes kann in 2 Ausführungen vorgenommen werden. In einfacher Ausführung wird der Pumpenkopf beheizt, indem ein Wärmeträgerkreislauf zwischen einem Thermostat oder Heissdampf-Anschluss und der in den Pumpenkopf eingearbeiteten Heizkammer hergestellt wird.

In einer erweiterten Ausführung wird in den Wärmeträgerkreislauf neben der Beheizung des Pumpenkopfes auch die Beheizung des Spalttopfes einbezogen. In diesem Falle wird die Pumpe in einer Doppelspalttopf-Konstruktion ausgeführt. Diese Ausführung bietet sich vor allem dann an, wenn Fluide mit niedrigem Schmelzpunkt in dem strömungsreduzierten Spalttopfbereich die Gefahr von Kristallisationen bergen.

Bei verfahrensbedingter Erfordernis kann der Pumpenkopf auch elektrisch beheizt werden. Im konkreten Einzelfall bitten wir um Rücksprache, um Ihre Anwendung zielgenau lösen zu können.

The power and precision of a high-pressure metering with dual drives, high chemical resistance and universal application

Nano metering pump up to 5 ml/min and 750 bar •

Micro metering pump up to 10 ml/min and 600 bar •

Prep.-metering pump up to 40 ml/min and 300 bar


Carino-09 high-pressure pumps are specialized, highly accurate piston pumps for the analytical and preparative applications and HPLC-technique, but also Micro-and Nano metering pumps in low and high pressure applications for laboratory, research and development and process optimization. They are characterized by their versatile material equipment, their dual drive technology with two independently working metering pistons and their flexible software. Available with 3 pump head sizes of 1 ml / min up to 50 ml / min and 3 pressure versions of 150 up to 750 bar. With easy operation via touch panel and TFT color screen, direct entry of dosing parameters, menu selection, purge and setup functions. Application-specific materials with stainless steel-, Hastelloy-, Titaniumand PEEK pump heads. With titanium pump head and ceramic sensor for inert applications with maximum biocompatibility. In 1- or 2- pump head design for pulse-free or dual metering in fillingreaction or other high-pressure processes. With working and auxiliary piston used for all analytical and HPLC applications. With piston back flushing to avoid solid deposits and piston wear. Integrated pressure control with programmable pressure Pmin and Pmax. Process- and automation capable control and flexible integration capability with extensive connectivity options.

Ziclon 04 - Ziclon 04- Prozesspumpen sind spezielle, ölfreie Drehschieberpumpen - Fink Chem + Tec GmbH & Co.KG

Das Fördern korrosiver Gase im Grenzbereich von Temperatur, Druck, Korrosivität mit hermetisch dichten Drehschieberpumpen

        Ziclon 04 Prozesspumpen

Ziclon 04- Prozesspumpen sind spezielle, ölfreie Drehschieberpumpen. Sie bestehen im wesentlichen aus dem Antriebsmotor, dem Gehäusering und dem Rotor mit Verdrängerplatten. Sie sind in Abhängigkeit ihrer Anwendung für einfache Gasförderungen, in spezieller Anpassung in der Verfahrensentwicklung und für anspruchsvollste Chemie- und Prozessanwendungen ausgelegt.

Im Rotor (Läufer) sind mehrere Rotorschlitze eingearbeitet, in denen Verdrängerplatten (Schieber) eingesetzt sind. Diese sind fliegend gelagert und legen sich durch die Fliehkraft an die Gehäusewand an. Je nach Anzahl der im Rotor eingesetzten Schieber transportieren die entstehenden Förderkammern das Gas von der Saug- zur Druckseite der Gasförderpumpe.

Ziclon 04- Gaszirkulationspumpen werden grundsätzlich in einer magnetgekuppelten Auslegung hergestellt. Sie sind deshalb hermetisch dicht und bestehen auch die Helium-Dichtheitsprüfung. Sie können sowohl als Förderpumpe als auch als Verdichter- oder Vakuumpumpe genutzt werden. Z04-Prozess-Zirkulationspumpen sind in der Verfahrensentwicklung, für die Förderung aggressiver Gase und Gasgemische, heißer oder radioaktiv kontaminierter Gase, in Hochdruckprozessen, aber auch für Reinstgase und Bypasspumpen einsetzbar